专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种制备三氯氢硅的合成炉-CN202120203751.9有效
  • 陈建祥;秦小勇;陈鹏飞;陈军峰 - 河南尚宇新能源股份有限公司
  • 2021-01-25 - 2021-11-26 - C01B33/08
  • 本实用新型属于化工技术领域,具体地涉及一种制备三氯氢硅的合成炉,包括炉体、散料装置、过滤机构和螺旋输送机,炉体的顶部设有加料口和出气口,且炉体的底部设有排渣口和进气口,进气口连接有气体管道,炉体内设有温度计和多孔布风板,散料装置包括转轴和减速电机,转轴与减速电机传动连接,转轴的周围设有多块散料板,过滤机构包括过滤箱和过滤器,过滤箱的顶部设有投料口,且过滤箱的底部设有排料口,过滤箱内设有过滤筛网,过滤筛网的底部设有振打电机,过滤器设置在气体管道上,过滤器的内部设有填充料,螺旋输送机的进料口与过滤箱的排料口相连,螺旋输送机的出料口与炉体的加料口相连。本装置能够提高三氯氢硅的收率。
  • 一种制备三氯氢硅合成
  • [实用新型]一种高纯度四氟化硅分离提纯设备-CN201921631223.2有效
  • 严江有;燕如勇;何学;杨旺海 - 福建瓮福蓝天氟化工有限公司
  • 2019-09-28 - 2020-06-26 - C01B33/08
  • 本实用新型公开了涉及四氟化硅分离提纯设备技术领域,具体为一种高纯度四氟化硅分离提纯设备,包括干燥除尘设备,干燥除尘设备呈L字形的管道结构,干燥除尘设备的左下端设置有贯穿内外的漏孔,漏孔的下端匹配安装有集尘盒,集尘盒的右端上表面一体设置有下方支撑滤板,下方支撑滤板的左侧面活动贴合有下方棉垫。本实用新型中设置有双重过滤杂质的棉垫,过滤杂质和去除湿气的效果较好,可提高四氟化硅的分离提纯纯度;本实用新型中集尘盒结构设计合理,集尘盒跟过滤除湿组件一体设置,方便拆装和清理,实用性强;本实用新型中集尘盒可快速进行拆装,方便使用,集尘盒可收集杂质和水,起到了提高四氟化硅的分离提纯纯度的作用。
  • 一种纯度氟化分离提纯设备
  • [发明专利]一种高纯度四氯化硅提纯方法-CN201410011907.8无效
  • 殷万朋;许超;其他发明人请求不公开姓名 - 北京国辰华星科技有限责任公司
  • 2014-01-12 - 2014-04-23 - C01B33/08
  • 本发明涉及一种光纤、光伏、半导体及其他科研领域用的高纯度四氯化硅的提纯技术,具体步骤如下:步骤1、以工业级四氯化硅为原料进料,经第一个精馏塔加压精馏,塔顶采出的低沸物进入低沸物储罐;步骤2、将步骤1得到的塔釜采出物经第二个精馏塔加压精馏,塔釜采出的高沸物,进入高沸物储罐;步骤3、将步骤2得到的塔顶采出物经第三个精馏塔加压精馏,塔釜采出物,回到第二个精馏塔,循环提纯;步骤4、将步骤3得到的塔顶采出物经第四个精馏塔加压精馏,塔顶采出物进入高沸物储罐;步骤5、将步骤4得到的塔釜采出物经第五个精馏塔加压精馏,塔釜采出物进入高沸物储罐,塔顶采出物即为质量浓度大于99.9999%的高纯度四氯化硅产品。
  • 一种纯度氯化提纯方法
  • [发明专利]玻璃加工方法-CN201110294230.X有效
  • 汤海林;彭信翰;杨伟 - 深圳市木森科技有限公司
  • 2011-09-28 - 2013-04-03 - C01B33/08
  • 一种玻璃加工方法,包括如下步骤:提供一激光束;所述激光束在玻璃的加工表面沿着切割线形成一个切割槽,所述切割线为螺旋线;随着所述切割槽的深度加大,所述激光束的焦点相对于所述切割槽的底部下降。上述玻璃加工方法控制激光束沿着切割线形成一个切割槽,切割线为螺旋线,随着切割面的下降,焦点会随着一同下降,即焦点始终位于切割面上,从而加深切割槽的深度。因此,上述玻璃加工方法可加工厚度较大的玻璃。并且,整个螺旋线作为一条曲线,切割过程中激光从起始点开激光直到终止点结束,无需频繁开关激光,即提高的切割效率,又可避免的起点终点位置因为延迟参数问题造成起点爆点问题,提高了切割的质量。
  • 玻璃加工方法
  • [发明专利]光纤用四氯化硅制备方法-CN200910243899.9无效
  • 苏小平;王铁艳;袁琴;毛威;刘福财;莫杰;武鑫萍 - 北京有色金属研究总院;北京国晶辉红外光学科技有限公司
  • 2009-12-24 - 2011-06-29 - C01B33/08
  • 本发明提供一种光纤用四氯化硅制备方法。它以多晶硅生产过程中产生的高沸点四氯化硅为原料,以不活泼或惰性气体作为保护气氛,在光照的情况下,通入氯气,使三氯氢硅在精馏塔内进行光化反应,同时控制塔釜温度和塔顶温度,选择合适的回流比取料,得到中间产品。将中间产品进一步精馏提纯,得到高纯四氯化硅,其含氢杂质的红外透过率满足光纤用四氯化硅对杂质透过率的要求,金属离子的含量满足光纤用四氯化硅的金属含量标准。本发明优点是:对于去除与和四氯化硅沸点较为接近三氯氢硅极为有效,降低四氯化硅中含氢杂质和金属杂质含量,使得经过本工艺提纯制备的四氯化硅,质量完全满足光纤产品的需要,且反应进行的条件、完全程度较易控制,不会引入其它杂质,可以较为有效和经济的方式以工业规模进行。
  • 光纤氯化制备方法

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