[发明专利]具有通孔的显示屏及其形成方法

权利要求书

1.一种具有通孔的显示屏，所述通孔贯穿所述显示屏，其中，所述显示屏包括：

基板；

位于所述基板一侧的缓冲材料层；

位于所述缓冲材料层远离所述基板一侧的金属阻挡层；

位于所述缓冲材料层远离所述基板一侧的薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层与所述金属阻挡层同层设置；和

有机发光材料层，所述有机发光材料层包括通孔外部分和通孔内部分，所述通孔外部分位于所述金属阻挡层和所述薄膜晶体管层远离所述基板一侧，所述通孔内部分覆盖所述通孔的内壁的一部分，

封装层，所述封装层至少覆盖所述有机发光材料层的所述通孔内部分和所述通孔的内壁的其他部分，

其中，

所述通孔穿过所述金属阻挡层、所述缓冲材料层和所述基板，

所述通孔在所述金属阻挡层中的孔尺寸小于所述通孔在所述缓冲材料层中的孔尺寸和在所述基板中的孔尺寸，所述通孔在所述金属阻挡层中的孔与所述通孔在所述缓冲材料层中的孔形成段差，所述通孔在所述金属阻挡层中的孔与所述通孔在所述基板中的孔的段差为0.2至0.5微米，并且

所述有机发光材料层的所述通孔内部分在所述段差处断开。

2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，

所述通孔在所述缓冲材料层中的孔尺寸小于所述通孔在所述基板中的孔尺寸。

3.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，

所述通孔在所述金属阻挡层中的孔与所述通孔在所述缓冲材料层中的孔的段差为0.1至0.2微米。

4.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，

所述金属阻挡层是钼层。

5.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，

所述金属阻挡层的厚度范围为至

6.一种制备权利要求1所述的具有通孔的显示屏的方法，所述方法包括：

在所述基板的一侧形成所述缓冲材料层；

在所述缓冲材料层远离所述基板一侧形成具有孔的图案化的所述金属阻挡层和与所述金属阻挡层同层设置的所述薄膜晶体管层；

使用刻蚀气体，通过所述金属阻挡层的孔刻蚀所述缓冲材料层，在所述缓冲材料层中形成孔，所述金属阻挡层中的孔尺寸小于所述通孔在所述缓冲材料层中的孔尺寸；

使用所述刻蚀气体通过所述金属阻挡层的孔和所述缓冲材料层中的孔继续刻蚀所述基板，在所述基板中形成孔，所述金属阻挡层中的孔尺寸小于所述通孔在所述基板中的孔尺寸，使得所述金属阻挡层中的孔与所述通孔在所述基板中的孔的段差为0.2至0.5微米；

通过蒸镀法从所述金属阻挡层和所述薄膜晶体管层远离所述基板一侧蒸镀有机发光材料，形成所述有机发光材料层；以及

至少在所述有机发光材料层的所述通孔内部分和所述通孔的内壁的所述其他部分覆盖所述封装层。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述刻蚀气体是SF₆。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述通孔在所述金属阻挡层中的孔与所述通孔在所述缓冲材料层中的孔的段差为0.1至0.2微米。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述金属阻挡层是钼层。

10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述金属阻挡层的厚度范围为至