[发明专利]一种硅片电池镀膜用石墨舟片、石墨舟及镀膜方法在审
申请号: | 202010003638.6 | 申请日: | 2020-01-03 |
公开(公告)号: | CN113078235A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 王鹏;何秋霞;马擎天 | 申请(专利权)人: | 环晟光伏(江苏)有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/673;C23C16/24 |
代理公司: | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 栾志超 |
地址: | 214200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 电池 镀膜 石墨 方法 | ||
1.一种用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟片,其特征在于:包括石墨舟片本体和分隔件,所述石墨舟片本体上设有多个硅片放置区,所述多个硅片放置区沿着所述石墨舟片本体的长度方向依次设置,所述分隔件设于所述硅片放置区处,所述硅片放置区周侧设有卡点。
2.根据权利要求1所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟片,其特征在于:所述硅片放置区为长方形通孔结构,所述硅片放置区的长度大于宽度。
3.根据权利要求2所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟片,其特征在于:所述硅片放置区的长度与半片硅片的长度相适应,所述硅片放置区的宽度与半片硅片的宽度相适应。
4.根据权利要求1-3任一项所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟片,其特征在于:所述分隔件为十字型结构,设于所述硅片放置区上。
5.一种用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟,其特征在于:包括多个根据权利要求1-4任一项所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟片、连接杆和隔挡件,所述多个石墨舟片均与所述连接杆连接,所述隔挡件设于所述连接杆上,且所述隔挡件设于相邻所述石墨舟片之间,所述多个石墨舟片平行设置。
6.根据权利要求5所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池镀膜用石墨舟,其特征在于:所述隔挡件为陶瓷套,所述陶瓷套的长度为10.48-10.52mm。
7.一种用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池的镀膜方法,其特征在于:包括以下步骤,
S1:对硅片进行切割,将所述硅片一分为二,形成半片硅片;
S2:对所述半片硅片进行插片,装载在所述石墨舟上;
S3:对所述半片硅片进行镀膜,在所述半片硅片镀膜过程中,进行多次镀膜。
8.根据权利要求7所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池的镀膜方法,其特征在于:所述半片硅片镀膜过程中,第一次镀膜时,按照第一镀膜温度和第一镀膜压力,通入硅烷和氨气,并设定第一镀膜时间,其中,
所述第一镀膜时间为120-180s,所述第一镀膜压力为1500-1900mTorr,所述硅烷的流量为850-1150sccm,所述氨气的流量为4-6slm,所述第一镀膜温度为400-500℃。
9.根据权利要求8所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池的镀膜方法,其特征在于:所述半片硅片镀膜过程中,第二次镀膜时,按照第二镀膜温度和第二镀膜压力,通入硅烷和氨气,并设定第二镀膜时间,其中,
所述第二镀膜时间为180-240s,所述第二镀膜压力为1500-1900mTorr,所述硅烷的流量为470-770sccm,所述氨气的流量为4.8-8.8slm,所述第二镀膜温度为400-500℃。
10.根据权利要求9所述的用于叠瓦、半片大尺寸硅片电池的镀膜方法,其特征在于:所述半片硅片镀膜过程中,第三次镀膜时,按照第三镀膜温度和第三镀膜压力,通入硅烷和氨气,并设定第三镀膜时间,其中,
所述第三镀膜时间为270-370s,所述第二镀膜压力为1500-1900mTorr,所述硅烷的流量为310-610sccm,所述氨气的流量为2.4-6.4slm,所述第三镀膜温度为400-500℃。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的