[其他]用于处理基板的系统

权利要求书

1.一种用于处理基板的系统，其特征在于，所述系统包括：

腔室；

基板处置器，所述基板处置器在所述腔室内，所述基板处置器经配置固定基板；及

辐射产生器，所述辐射产生器在所述腔室内，所述基板处置器可进一步操作以定位所述基板的边缘表面，使得来自所述辐射产生器传播的辐射被引导到所述基板的所述边缘表面，且可操作以将所述基板的沉积表面的周边区域定位，使得来自所述辐射产生器传播的辐射被引导到所述沉积表面的所述周边区域，所述周边区域垂直于所述边缘表面且沿着所述边缘表面。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述系统进一步包括抽取器壳体，所述抽取器壳体包含：

界定内部空间和开口的侧壁，所述内部空间流体地耦接到出口；及

透明窗，所述透明窗设置在与所述开口相对的所述侧壁上，所述辐射产生器经定位引导辐射通过所述透明窗、所述内部空间和所述开口。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板处置器包括第一可移动台和第二可移动台，所述第一可移动台可沿第一方向横向移动，所述第二可移动台可沿垂直于所述第一方向的第二方向横向移动。

4.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板处置器包含：

可旋转台；

第一可旋转接头，所述第一可旋转接头由所述可旋转台支撑；

第一连杆，所述第一连杆附接于所述第一可旋转接头；

第二可旋转接头，所述第二可旋转接头附接于所述第一连杆；

第二连杆，所述第二连杆附接于所述第二可旋转接头；

腕部，所述腕部附接于所述第二连杆；及

夹具，所述夹具附接于所述腕部，所述夹具经配置在所述基板的相对边缘表面处使用相反的力来固定所述基板。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述基板处置器可操作以在不同时间定位所述基板的每个边缘表面，使得来自所述辐射产生器传播的辐射被引导到所述基板的相应边缘表面，且可操作以在不同时间将所述周边区域定位，使得来自所述辐射产生器传播的辐射被引导到所述沉积表面的所述周边区域，所述周边区域垂直于每个边缘表面且沿着每个边缘表面。

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述辐射产生器是紫外线(UV)激光产生器。

7.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述辐射产生器是电子束(e-beam)产生器。

8.一种用于处理基板的系统，其特征在于，所述系统包括：

腔室；

基板处置器，所述基板处置器在所述腔室内，所述基板处置器包括可移动台和耦接到所述可移动台的可移动的基板固持器；

抽取器壳体，所述抽取器壳体在所述腔室内；及

辐射产生器，所述辐射产生器在所述腔室内，所述辐射产生器与所述抽取器壳体的开口对齐。

9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述基板固持器能够平移和旋转。

10.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述辐射产生器包括紫外线(UV)激光和电子束(e-beam)。

11.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述辐射产生器是固定的。

12.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述辐射产生器可相对于所述抽取器壳体移动。

13.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述系统进一步包括基板台，所述基板台在所述腔室内设置于所述基板处置器附近。