[发明专利]沉积设备和用于监测沉积设备的方法

说明书

提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)。所述沉积设备包括阴极组件(10)。所述沉积设备包括冷却剂接收壳体(20)，所述冷却剂接收壳体用于接收冷却剂(22)以冷却所述阴极组件。所述沉积设备包括传感器(30)，所述传感器布置在所述冷却剂接收壳体(20)外部以检测所述冷却剂从所述冷却剂接收壳体的泄漏。

技术领域

本文描述的实施方式涉及通过从靶溅射的层沉积。一些实施方式特别地涉及在大面积基板上溅射层。本文描述的实施方式具体地涉及一种包括一个或多个阴极组件的溅射沉积设备。

背景技术

在许多应用中，必需在基板上沉积薄层。可在涂覆设备的一个或多个腔室中涂覆基板。可使用气相沉积技术在真空中涂覆基板。

已知用于在基板上沉积材料的若干方法。例如，可通过物理气相沉积(PVD)工艺、化学气相沉积(CVD)工艺、或等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺等来涂覆基板。在要涂覆的基板所位于的处理设备或处理腔室中执行工艺。沉积材料提供在设备中。多种材料以及它们的氧化物、氮化物或碳化物可用于在基板上沉积。涂覆材料可用于若干应用和若干技术领域中。例如，用于显示器的基板通常通过物理气相沉积(PVD)工艺进行涂覆。另外的应用包括绝缘面板、有机发光二极管(OLED)面板、具有薄膜晶体管(TFT)的基板、滤色器或类似者。

对于PVD工艺，沉积材料可以固相存在于靶中。通过用高能颗粒轰击靶，靶材料、即要沉积的材料的原子从靶被撞出。靶材料的原子沉积在待涂覆的基板上。在PVD工艺中，溅射材料(即，要沉积在基板上的材料)可以不同方式布置。例如，靶可由要沉积的材料制成，或者可具有背衬元件，要沉积的材料固定在背衬元件上。包括要沉积的材料的靶被支撑或固定在沉积腔室中的预定位置上。在使用可旋转靶的情况下，靶连接至旋转轴或连接轴和靶的连接元件。

分段平面靶、单片平面靶和可旋转靶可用于溅射。由于阴极的几何形状和设计，相较于平面靶来说，可旋转靶典型地具有更高的利用率和增加的操作时间。使用可旋转靶可延长使用寿命并降低成本。

溅射可作为磁控管溅射进行，其中利用磁体组件来约束等离子体以改善溅射条件。等离子体约束可用于调整要沉积在基板上的材料的颗粒分布。

由于沉积设备是具有多个不同部件的复杂系统，无论是电气、机械还是其他类型的部件，因此都需要监测设备以确保设备的不同部件正常运行。在一些情况下，部件的错误或故障可能会有损沉积层的质量，或者在一些情况下甚至会导致设备的损坏或故障。因此，一直需要改善沉积设备的监测。

发明内容

根据一个实施方式，提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备。沉积设备包括阴极组件。沉积设备包括用于接收冷却剂以冷却阴极组件的冷却剂接收壳体。沉积设备包括布置在冷却剂接收壳体外部以检测冷却剂从冷却剂接收壳体的泄漏的传感器。

根据另一实施方式，提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备。沉积设备包括阴极驱动单元。阴极驱动单元可连接至阴极组件。阴极驱动单元具有排出阴极组件的冷却剂的通道。沉积设备包括用于检测通道中的冷却剂的传感器。

根据另一实施方式，提供了一种用于在基板上沉积材料的沉积设备。沉积设备包括阴极组件。阴极组件具有用于冷却剂的壳体。所述设备包括支撑阴极组件的阴极驱动单元。阴极驱动单元包括第一密封件。阴极驱动单元包括通过第一密封件与壳体分开的排出通道。沉积设备可包括传感器、具体是泄漏传感器。传感器被布置在排出通道中或连接至所述排出通道。

根据另一实施方式，提供了一种用于监测沉积设备的方法。沉积设备包括阴极组件。沉积设备包括冷却剂接收壳体，所述冷却剂接收壳体用于接收冷却剂以冷却阴极组件。所述方法包括检测冷却剂从冷却剂接收壳体的泄漏。

附图说明

在说明书的其余部分(包括对附图的参考)中更具体地阐述对于本领域的普通技术人员来说完整且能够实现的公开内容，其中：