[发明专利]沉积设备和用于监测沉积设备的方法

权利要求书

1.一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)，包括：

阴极组件(10)；

冷却剂接收壳体(20)，所述冷却剂接收壳体用于接收冷却剂(22)以冷却所述阴极组件；和

传感器(30)，所述传感器布置在所述冷却剂接收壳体外部以检测所述冷却剂从所述冷却剂接收壳体的泄漏。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，进一步包括支撑装置(230)，所述支撑装置支撑所述阴极组件，所述支撑装置包括第一密封件(210)以防止所述冷却剂从所述冷却剂接收壳体流出。

3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中所述支撑装置进一步包括用于排出已经通过所述第一密封件泄漏的冷却剂的通道(220)，所述传感器被配置为检测所述通道中的冷却剂。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中所述第一密封件具有面向所述冷却剂接收壳体的内部的第一侧(302)和与所述第一侧相对的第二侧(304)，所述通道与位于所述第一密封件的所述第二侧的区域流体连通。

5.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述冷却剂接收壳体的至少一部分在所述阴极组件内部。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的沉积设备，其中所述沉积设备进一步包括与所述第一密封件滑动接触的可旋转管形零件(420)。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的沉积设备，其中所述支撑装置是被配置为用于进行以下操作的阴极驱动单元：

向所述阴极组件供应电力；或

向所述阴极组件供应冷却剂；或

驱动所述阴极组件的旋转；或

以上项的任何组合。

8.一种用于处理基板的设备(100)，包括：

阴极驱动单元(230)，所述阴极驱动单元可连接至阴极组件(10)，所述阴极驱动单元具有用于排出所述阴极组件的冷却剂(22)的通道(220)；和

传感器(30)，所述传感器用于检测所述通道中的冷却剂。

9.根据权利要求8所述的沉积设备，其中所述阴极驱动单元进一步包括第一密封件(210)，所述通道被布置为排出已经通过所述第一密封件泄漏的冷却剂。

10.根据权利要求8或9所述的沉积设备，其中所述阴极驱动单元进一步包括与所述第一密封件间隔开的第二密封件(410)，所述通道与所述第一密封件和所述第二密封件之间的区域流体连通。

11.一种用于在基板上沉积材料的沉积设备(100)，包括：

阴极组件(10)，所述阴极组件具有用于冷却剂(22)的壳体(20)；

阴极驱动单元(230)，所述阴极驱动单元支撑所述阴极组件，所述阴极驱动单元包括：

第一密封件(210)；和

排出通道(220)，所述排出通道通过所述第一密封件与所述壳体分开；和

泄漏传感器(30)，所述泄漏传感器布置在所述排出通道中或连接至所述排出通道。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的沉积设备，其中所述沉积设备是溅射沉积设备并且所述阴极组件是溅射阴极组件。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的沉积设备，其中所述阴极组件包括具有弯曲表面的靶，所述靶可围绕所述靶的旋转轴旋转。

14.一种用于监测沉积设备(100)的方法，所述沉积设备包括阴极组件(10)和容纳冷却剂(22)以冷却所述阴极组件的冷却剂接收壳体(20)，所述方法包括：

检测冷却剂从所述冷却剂接收壳体的泄漏。

15.如权利要求14所述的方法，其中所述沉积设备进一步包括支撑所述阴极组件的阴极驱动单元(230)，所述阴极驱动单元具有将冷却剂从所述阴极组件(10)排出的通道(220)，其中所述检测冷却剂从所述冷却剂接收壳体的所述泄漏包括检测所述通道中的冷却剂。