[发明专利]通过光阑结构对可移动IR发射器的调制在审
| 申请号: | 201980059762.X | 申请日: | 2019-09-13 |
| 公开(公告)号: | CN112739998A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
| 发明(设计)人: | 阿尔方斯·德厄;阿希姆·比特纳;丹尼尔·比辛格 | 申请(专利权)人: | 哈恩-席卡德应用研究学会 |
| 主分类号: | G01J3/10 | 分类号: | G01J3/10;G01N21/17;G02B26/04 |
| 代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 王晖 |
| 地址: | 德国维林根*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 通过 光阑 结构 移动 ir 发射器 调制 | ||
1.可调制的红外发射器(1),包括
光阑结构(3),
结构化微加热元件(5),以及
致动器(7),
其特征在于,
所述微加热元件(5)在第一平面(10)中表现出可加热区域(9)和非可加热区域(11);所述光阑结构(3)在第二平面(12)中表现出用于红外辐射的透射区域(13)和不透射区域(15),所述两个平面彼此平行,所述光阑结构(3)和所述微加热元件(5)能够在所述平行平面中相对于彼此移动,并且所述致动器(7)被配置用于所述光阑结构(3)和所述微加热元件(5)在至少第一位置和第二位置之间的相对移动,使得对于由所述微加热元件(5)发射的、通过在所述第一位置和所述第二位置之间的所述光阑结构(3)的红外辐射,能够达到至少为2的消光比,其中,在所述第一位置,由所述可加热区域(9)发射的IR辐射主要被所述光阑结构(3)的所述不透射区域(15)吸收和/或反射,而在所述第二位置,由所述可加热区域(9)发射的IR辐射主要辐射通过所述光阑结构(3)的所述透射区域(13)。
2.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述致动器(7)耦接到所述加热元件(5)并且被配置用于所述加热元件(5)相对于所述光阑结构(3)的平移移动,或者所述致动器(7)耦接到所述光阑结构(3)并且被配置用于所述光阑结构(3)相对于所述加热元件(5)的平移移动。
3.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述红外发射器(1)包括壳体(18),在所述壳体中安装有所述光阑结构(3)、所述微加热元件(5)和所述致动器(7),其中,所述光阑结构(3)优选地与所述壳体(18)热解耦合,并且其中,所述壳体(18)特别优选地包括盖元件(21),在所述盖元件中固定有所述光阑结构(3),并且至少一个光学滤波器被附加地安装在所述盖元件(21)中。
4.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述微加热元件(5)包括基板,在所述基板上至少部分地沉积导电材料的可加热层,在所述导电材料的可加热层上存在用于电流源和/或电压源的接触部,
其中,所述基板优选地选自包括硅、单晶硅、多晶硅、二氧化硅、碳化硅、硅锗、氮化硅、氮化物、锗、碳、砷化镓、氮化镓和/或磷化铟的组,和/或用于形成所述可加热层的导电材料优选地选自包括铂、钨、(掺杂的)氧化锡、单晶硅、多晶硅、钼、钛、钽、钛钨合金、金属硅化物、铝、石墨和/或铜的组。
5.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述微加热元件(5)包括片层结构(17)、曲折结构和/或栅格结构,和/或
关于所述微加热元件(5)和所述光阑结构(3)之间的可能的相对移动,在所述第一平面(10)中周期性地布置所述微加热元件的所述可加热区域(9)和所述非可加热区域(11),以及在所述第二平面(12)中周期性地布置所述光阑结构(3)的所述透射区域(13)和所述不透射区域(15),
其中,优选地,所述微加热元件(5)的所述可加热区域(9)和所述非可加热区域(11)的布置的空间周期等于所述透射区域(13)和所述不透射区域(15)的布置的空间周期。
6.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述致动器(7)是MEMS致动器,所述致动器优选地选自包括静电致动器、压电致动器、电磁致动器和/或热致动器的组,其中,所述MEMS致动器特别优选地是基于梳齿重叠和/或梳齿间隔的变化的梳齿驱动器形式的静电致动器。
7.根据前述权利要求中的一项或更多项所述的可调制的红外发射器(1),
其特征在于,
所述光阑结构(3)的所述不透射区域(15)在780nm至1mm的波长范围内表现出小于0.1的透射率,并且所述光阑结构(3)的所述透射区域(13)表现出大于0.9的透射率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈恩-席卡德应用研究学会,未经哈恩-席卡德应用研究学会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980059762.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有高度腐蚀的粒子表面和高韧性指数的立方氮化硼粒子群
- 下一篇:装饰板





