[发明专利]用于探测物体的设备和方法

说明书

本发明涉及一种用于探测借助输送装置输送通过设备的测量区域的物体的设备，所述设备具有发射装置和接收装置，所述发射装置用于发射具有在千兆赫或太赫范围中的频率的测量辐射到所述物体的外轮廓上，所述接收装置用于接收由所述物体反射的测量辐射，其中，在一方面发射装置和/或接收装置和另一方面测量区域之间设置对于所述测量辐射透明的并且对于气体可透过的保护栅。本发明此外涉及一种对应的方法。

技术领域

本发明涉及一种用于探测借助输送装置输送通过设备的测量区域的物体的设备，所述设备具有发射装置和接收装置，所述发射装置用于将具有在千兆赫或太赫范围中的频率的测量辐射发射到所述物体的外轮廓上，所述接收装置用于接收由所述物体反射的测量辐射。本发明此外涉及对应的方法。

背景技术

利用这样的设备可以例如确定管的直径。已知发射装置，其发射在千兆赫或太赫频率范围中的测量辐射。这样的测量辐射很大程度上对于干扰不敏感，所述干扰如通过蒸汽等可能出现。由发射装置发射出的测量辐射由管反射并且返回到达接收装置。评估装置可以例如基于运行时间测量来测量发射和接收装置与管的距离。如果这样的测量例如在管的不同的侧上进行，则可以以这种方式确定直径。也可以在测量中通过在管的环周上的多个测量点分布地检测外轮廓、例如椭圆度等。

在制造管时原则上存在希望，对外轮廓还在成型期间或尽可能早地在管的最终的成型之后测量，借此必要时可以及早干预生产参数并且避免废品。例如在借助辊制造金属管时，所述辊借助水冷却，由此出现强的蒸汽产生。

在该环境中也经常有脏粒、如金属粉尘、轧屑或类似物。尤其是在制造塑料管可以使用由金属制成的所谓的校准套筒，在该时刻还软的塑料管例如通过施加负压被吸向所述校准套筒并且从而获得最终的形状。也在这里进行利用水的冷却，由此再次出现显著的蒸汽产生。光学的测量设备在这样的测量环境中具有显著的问题。

也在使用太赫或千兆赫辐射时，在测量在这样的测量环境中的物体时，测量结果通过脏粒的影响是有问题的。此外发射和接收装置在所解释的恶劣的测量环境中经受高的温度，这会导致对应的干扰或损坏。如果另一方面为了避免这些问题在后来的时刻探测外轮廓，如果测量环境较不严苛，则在生产参数的可能的不希望的偏差时出现显著的废品。

也在制造或处理例如厚板材、热轧带或冷轧带钢板材时经常存在如下期望，即测量和评估厚度、宽度、平面度和/或表面特征。在此经常需要的是，将发射和接收装置也设置在要测量的产品之下。发射和接收装置又在此经受显著的污染危险。

发明内容

从解释的现有技术出发，本发明的任务是，提供开头所述类型的设备和方法，其也在如解释的恶劣的测量环境中提供可靠的测量结果并且借此最小化在制造要探测的物体时的废品。

本发明通过有利的特征解决所述任务。

对于开头所述类型的设备，本发明如下解决所述任务，即，在作为一方面的发射装置和/或接收装置和作为另一方面的测量区域之间设置对于所述测量辐射透明的并且对于气体可透过的保护栅。

要探测的物体在测量期间输送通过按照本发明的设备的测量区域。为此所述设备具有对应的输送装置。所述物体可以例如是条形的物体如管、尤其是条形的物体如由金属、如钢、塑料或玻璃制成的管。要探测的物体也可以是基本上处于一个平面中的物体、例如板材、尤其是厚板材、热轧带板材或冷轧带钢板材。本发明也涉及一种系统，其具有按照本发明的设备和要探测的物体。在此所述设备的至少一个发射装置和/或至少一个接收装置可以设置在要探测的物体之下。要探测的物体可以按照材料在测量期间还具有非常高的温度，例如钢管超过1000℃的温度或玻璃管超过2000℃的温度。