[发明专利]用于干燥图案化的OLED制剂的系统和方法

权利要求书

1.一种干燥室，其包括：

设置于外壳内的基底支撑件，所述基底支撑件具有支撑表面；

具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域的掩模，所述掩模横跨于所述外壳内的所述基底支撑件的支撑表面且设置成与所述支撑表面相距可调的距离；以及

连接至所述外壳的气源；以及

连接至所述外壳的真空源。

2.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模具有延伸穿过所述外壳的掩模支撑件。

3.根据权利要求2所述的干燥室，其中所述掩模支撑件位于所述掩模的两个相对侧。

4.根据权利要求1所述的干燥室，其进一步包括在所述掩模和所述真空源之间的配气元件。

5.根据权利要求4所述的干燥室，其进一步包括外围蒸汽阻挡层，所述外围蒸汽阻挡层包围所述掩模和所述配气元件之间的间隙。

6.根据权利要求4所述的干燥室，其中所述气源在向所述蒸汽阻隔层外部提供气流的位置处与所述外壳偶联。

7.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括从所述掩模的近端表面向所述支撑表面延伸的壁。

8.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述基底支撑件包括温控元件。

9.根据权利要求1所述的干燥室，其中所述掩模包括刚性材料，所述刚性材料设置于所述基底上方且与所述基底隔开。

10.根据权利要求1所述的干燥室，其中每个蒸汽透过区域具有单个开口、多个开口、网孔、筛网或多孔材料。

11.一种用于干燥具有湿润区的基底的方法，所述湿润区由干燥边界域隔开且由载液润湿，所述方法包括：

将掩模相对于所述基底进行定向，所述掩模具有蒸汽透过区域和蒸汽阻挡区域；以及

通过所述掩模的所述蒸汽透过区域，从所述基底的所述湿润区吸取载液。

12.根据权利要求11所述的方法，其中将掩模相对于所述基底进行定向，使所述蒸汽透过区域定位在所述湿润区的相对侧，并将所述蒸汽阻挡区域定位在所述干燥边界域的相对侧。

13.根据权利要求12所述的方法，其进一步包括：在所属基底和所述掩模之间设置间隙。

14.根据权利要求12所述的方法，所述吸取使所述载液通过穿孔的配气元件。

15.根据权利要求14所述的方法，其中每个所述湿润区为第一形状，且每个所述蒸汽透过区域在相似的第二形状上延伸，所述方法还包括使所述湿润区相对于所述蒸汽透过区域对齐。

16.一种干燥室，其包括：

基底支撑件，其用于支撑具有由干燥边界域隔开的湿润区的基底，所述湿润区包括表现出载液蒸汽压的挥发性载液；

配气装置，其限定所述基底上方的处理空间体积的处理空间，其中所述处理空间体积在五分钟内几乎达到挥发性载液的蒸汽饱和度；以及

真空源，其从所述处理空间吸取所述挥发性载液的蒸汽。

17.根据权利要求16所述的干燥室，其进一步包括：致动器，所述致动器与所述基底支撑件和所述配气装置之一连接以装载和卸载所述基底。

18.根据权利要求16所述的干燥室，其进一步包括：包围所述基底支撑件和所述配气装置的辅助处理空间。

19.根据权利要求18所述的干燥室，其进一步包括：向所述辅助处理空间提供空气的气源。