[发明专利]用于镀层掩模的可固化组合物、掩模材料、和去除镀层的方法

说明书

问题：提供一种用于镀层掩模的可固化组合物，该可固化组合物能够以各种图案形状容易地形成对镀层去除剂具有改善的耐化学性的掩模材料。解决方案：一种用于镀层掩模的可固化组合物，所述可固化组合物包含单体成分，所述单体成分包含具有(甲基)丙烯酰基基团和酸性官能团的第一单体以及具有(甲基)丙烯酰基基团和苯环的第二单体；以及光聚合引发剂。

技术领域

本发明涉及用于镀层掩模的可固化组合物、掩模材料、和去除镀层的方法。

背景技术

通常，在金属基底的表面上施涂涂层的方法是已知的。例如，专利文献1描述了一种漆料组合物，所述漆料组合物包含(A)在具有酚结构的分子中具有一个乙烯双键的可聚合单官能单体；(B)在分子中具有八个或更多乙烯双键的可聚合多官能低聚物；和(C)硅基均化剂，漆料组合物对金属基底具有改善的粘附性、耐磨性和耐盐水性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：JP 2014-080596 A

发明内容

本发明要解决的问题

通常，通过在构件的表面上进行镀覆处理以保护构件的表面。通过镀覆处理，在构件的表面上形成金属薄膜(在下文中简称为“镀层”或“金属镀层”)。

如果要将镀层从构件的表面去除以加工构件，则例如已知一种用于施涂镀层去除剂的方法。在该方法中，据知可通过用掩模材料覆盖一部分镀层来部分地去除镀层。然而，在常规树脂材料(例如专利文献1中所述的漆料组合物)中，其对镀层去除剂的耐化学性不足，并且难以发挥作为掩模材料的功能。此外，如果使用金属材料作为掩模材料，则存在形成精细图案困难的问题。

因此，本发明的一个目的是提供一种用于镀层掩模的可固化组合物，其可容易地以各种图案形状形成对镀层去除剂具有改善的耐化学性的掩模材料。另外，本发明另一个目的是提供包含如上所述用于镀层掩模的可固化组合物的掩模材料，以及使用如上所述用于镀层掩模的可固化组合物来去除镀层的方法。

用于解决问题的方法

本发明的一个方面涉及用于镀层掩模的可固化组合物，其包含单体成分，所述单体成分包含具有(甲基)丙烯酰基基团和酸性官能团的第一单体以及具有(甲基)丙烯酰基基团和苯环的第二单体；以及光聚合引发剂。

由于用于镀层掩模的可固化组合物包含第一单体和第二单体作为单体成分，因此固化产物对镀层具有优异的粘附性以及对镀层去除剂的优异的耐化学性。此外，用于镀层掩模的可固化组合物可通过在镀层上施涂组合物，然后使此组合物固化来形成具有预定图案的掩模材料。此外，由于用于镀层掩模的可固化组合物可通过光照射来固化，因此即使基材(经镀覆处理的构件)耐热性不足，也可容易地形成掩模材料。

在一方面，基于单体成分的总量计，第一单体的含量可为5质量％至40质量％。

在一方面，基于单体成分的总量计，第二单体的含量可为40质量％至95质量％。

在一方面，所述单体成分还可包含具有两个或更多个(甲基)丙烯酰基基团的多官能单体。

在一方面，基于单体成分的总量计，多官能单体的含量可为5质量％至40质量％。

在一方面，每单位质量单体成分的酸性官能团的百分比含量可为0.15mmol/g至6.0mmol/g。

本发明的一个方面涉及掩模材料，其包含如上所述用于镀层掩模的可固化组合物的固化产物。该掩模材料对镀层具有优异的粘附性以及对镀层去除剂具有优异的耐化学性。