[发明专利]感光性聚酰亚胺树脂组合物及其聚酰亚胺膜有效

专利信息
申请号: 201980001576.0 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN110431484B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 黄堂杰;庄朝钦;史谕樵;谢坤翰 申请(专利权)人: 律胜科技股份有限公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/004;G02F1/1333;H05K1/03
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平;吕小羽
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 感光性 聚酰亚胺 树脂 组合 及其
【说明书】:

发明提供一种感光性聚酰亚胺树脂组合物,其包含:(a)感光性聚酰亚胺,其由式(1)所表示;(b)填充剂,其选自氧化铝、石墨烯、无机粘土、氧化硅及氧化锌中的一种或多种,且该填充剂粒径介于10纳米~1.0微米;(c)光自由基引发剂;(d)自由基聚合性化合物;(e)溶剂,其用于溶解该感光性聚酰亚胺,其中,X来源于四羧酸二酐,Y来源于二胺,m为1~5000中的正整数。

技术领域

本发明涉及一种感光性树脂组合物,特别涉及一种以感光性聚酰亚胺为主成分的感光性树脂组合物。

背景技术

一般来说,聚酰亚胺树脂是由芳香族的四羧酸或其衍生物与芳香二胺、芳香二异氰酸酯缩聚而制得,所得的聚酰亚胺树脂具有良好的耐热性、耐化学性、机械和电特性,因而被广泛用于如半导体密封剂等电子材料。

聚酰亚胺应用于半导体元件的制程中,往往需要利用微影成像技术(MicroLithography)来制作线路图形,如果使用传统的聚酰亚胺,则必须额外加入一层光阻材料(photoresist)以进行蚀刻。因此,感光性聚酰亚胺(Photosensitive polyimide,PSPI)由于同时具有光阻及绝缘保护材料的特性,可以简化制程,使得软板电子材料制程有相当的进步,为目前相当热门的尖端材料。

然而,感光性聚酰亚胺在可见光区内具有较低的穿透率,且其颜色为黄色或棕色,因此不适合用于液晶显示装置的透明保护层或绝缘层,进而使之应用受限。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的是提供一种感光性聚酰亚胺树脂组合物,其可形成黄度低且穿透率高的聚酰亚胺膜。

为达上述目的,本发明所提供的感光性聚酰亚胺树脂组合物包含:(a)感光性聚酰亚胺,其由式(1)所表示;(b)填充剂,其选自氧化铝、石墨烯、无机粘土、氧化硅及氧化锌中的一种或多种,且该填充剂粒径介于10纳米~1.0微米;(c)光自由基引发剂;(d)自由基聚合性化合物;(e)溶剂,其用于溶解该感光性聚酰亚胺,

其中,X来源于四羧酸二酐,Y来源于二胺,m为1~5000中的正整数。

较佳地,该四羧酸二酐为3,3′,4,4′-联苯四羧酸二酐、3,3′,4,4′-二苯甲酮四羧酸二酐、4,4′-氧联二邻苯二甲酸酐、双(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、2,2-二(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-双(3,4二羧基苯基)丙烷二酐、1,3-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酐、4,4′-双(3,4-二羧基苯氧基)联苯二酐、2,2-双[4-(3,4-二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐、乙二醇双(偏苯三酸酐)(TMEG)、丙二醇双(偏苯三酸酐)(TMPG)、1,2-丙二醇双(偏苯三酸酐)、丁二醇双(偏苯三酸酐)、2-甲基-1,3-丙二醇双(偏苯三酸酐)、二丙二醇双(偏苯三酸酐)、2-甲基-2,4-戊二醇双(偏苯三酸酐)、二甘醇双(偏苯三酸酐)、四甘醇双(偏苯三酸酐)、六甘醇双(偏苯三酸酐)、新戊二醇双(偏苯三酸酐)、对苯二酚双(2-羟乙基)醚双(偏苯三酸酐)、2-苯基-5-(2,4-二甲苯基)-1,4-氢化醌双(偏苯三酸酐)、2,3-二氰基氢醌环丁烷-1,2,3,4-四羧酸二酐、1,2,3,4-环戊烷四羧酸二酐、1,2,4,5-环己烷四羧酸二酐、双环[2.2.1]庚烷-2,3,5,6-四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛烷-2,3,5,6-四羧酸二酐、2,3,5-三羧基-环戊基乙酸二酐、双环[2.2.1]庚烷-2,3,5-三羧基-6-乙酸二酐、十氢-1,4,5,8-二甲醇萘-2,3,6,7-四羧酸二酐、丁-1,2,3,4-四羧酸二酐、3,3′,4,4′-二环己基四羧酸二酐或前述四羧酸二酐任意二种以上的组合。

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