[实用新型]一种沉积盘有效
申请号: | 201922487737.1 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN211570767U | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 李洋洋;张秀全;薛海蛟;李真宇;张涛 | 申请(专利权)人: | 济南晶正电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 250100 山东省济南市高新区港*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 | ||
1.一种沉积盘,其特征在于,所述沉积盘适用于晶圆衬底CVD沉积,所述晶圆衬底具有直线形的切边,在所述沉积盘上开设有沉积槽(1),所述沉积槽(1)为柱形槽,所述沉积槽(1)的截面为优弧弓形,所述优弧弓形的弦长等于晶圆衬底切边的边长,所述沉积槽(1)的半径等于晶圆衬底的半径,所述沉积槽(1)的深度等于晶圆衬底的厚度。
2.根据权利要求1所述的沉积盘,其特征在于,所述沉积槽(1)的深度为0.2~1mm。
3.根据权利要求1所述的沉积盘,其特征在于,所述沉积盘的厚度为所述沉积槽(1)深度的3~8倍。
4.根据权利要求1所述的沉积盘,其特征在于,所述沉积盘上设置有多个沉积槽(1),任意两个相邻沉积槽(1)的圆心距与沉积槽(1)直径之差大于1mm。
5.根据权利要求4所述的沉积盘,其特征在于,至少有两个沉积槽(1)的直径不同。
6.根据权利要求4所述的沉积盘,其特征在于,至少有两个沉积槽(1)的深度不同。
7.根据权利要求1所述的沉积盘,其特征在于,所述沉积盘(3)由导热系数为80~300W/mK的材料制造。
8.根据权利要求7所述的沉积盘,其特征在于,所述导热系数为80~300W/mK的材料包括石墨、铝或者碳化硅。
9.根据权利要求1所述的沉积盘,其特征在于,由所述沉积槽(1)的顶面向所述沉积槽(1)的侧壁上开设有取样槽(2),所述取样槽(2)伸至所述沉积槽(1)的底端。
10.根据权利要求9所述的沉积盘,其特征在于,所述取样槽(2)为锥形槽,所述取样槽(2)的最大宽度小于4mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的