[实用新型]具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统

权利要求书

1.一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，包括反应腔室、介质窗、法拉第屏蔽件以及进气喷嘴；法拉第屏蔽件置于所述介质窗外侧，并与介质窗沿中部位置处设置贯通孔；进气喷嘴的进气侧穿出贯通孔后与气体源连通、出气侧则穿过贯通孔后与反应腔室连通；其特征在于，所述进气喷嘴包括采用导电材质制成的中空导电连接件；导电连接件的内腔分别与进气喷嘴的进气侧、出气侧连通，且导电连接件与法拉第屏蔽件导电连接；所述法拉第屏蔽件的射频功率通过导电连接件或法拉第屏蔽件加载。

2.根据权利要求1所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，进气喷嘴的进气侧设置有进气接头、绝缘进气管道，而进气喷嘴的出气侧则设置绝缘喷头；

绝缘进气管道的进气端安装进气接头，出气端则与导电连接件的进气端固定；

绝缘喷头的进气端则与导电连接件的出气端固定。

3.根据权利要求2所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，所述导电连接件为射频导电进气管；

所述的射频导电进气管，一端设置进气孔，通过绝缘进气管道与进气接头连通，另一端则设置外套法兰盘a；

所述的绝缘喷头，一端周向均匀设置若干喷气孔，与反应腔室连通，另一端则设置外套法兰盘b；

外套法兰盘a、外套法兰盘b通过法兰盘对接的方式采用螺纹紧固件连接固定，且外套法兰盘a的外缘与法拉第屏蔽件导电连接或者与法拉第屏蔽件一体成型；而绝缘喷头的外壁则与介质窗的贯通孔孔壁密封连接。

4.根据权利要求2所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，所述导电连接件为法兰盘构件；

所述的绝缘喷头，一端周向均匀设置若干喷气孔，与反应腔室连通，另一端则设置外套法兰盘b；

所述绝缘进气管道的出气端设置外套法兰盘c；

进气喷嘴的法兰盘结构位于外套法兰盘c与外套法兰盘b之间，并采用螺纹紧固件通过法兰盘对接的方式连接固定；且导电连接件的法兰盘结构的外缘与法拉第屏蔽件导电连接或者与法拉第屏蔽件一体成型；而绝缘喷头的外壁则与介质窗的贯通孔孔壁密封连接。

5.根据权利要求3或4所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，所述导电连接件与绝缘喷头的连接位置处设置有防止气体在进气喷嘴内部电离的防电离件。

6.根据权利要求5所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，所述防电离件为绝缘多孔管，包括多孔管本体以及贯通多孔管本体设置的若干分流导气流道；

多孔管本体的外壁与进气喷嘴的内壁连接或者与绝缘喷头一体设置，多孔管本体的两端分别为进气端、出气端，分设在导电连接件与绝缘喷头的连接位置处的两侧，且多孔管本体的进气端靠近进气喷嘴进气侧设置，而多孔管本体的出气端则靠近绝缘喷头的喷气孔设置；

进气喷嘴进气侧流入的气体通过各分流导气流道分流后，经绝缘喷头的喷气孔流入反应腔室。

7.根据权利要求6所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，当所述导电连接件为射频导电进气管时，射频导电进气管的内径小于绝缘喷头的内径；绝缘多孔管呈T形管状设置，包括外径较小的管段a以及外径较大的管段b；管段a的外壁能够与射频导电进气管的外壁配合，且管段a的轴向长度大于等于2mm，管段b的外壁能够与绝缘喷头的内壁配合。

8.根据权利要求7所述的具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，其特征在于，所述多个分流导气流道的出气口均开设在多孔管本体的下表面；所述多孔管本体的下表面开设有底部凹槽；所述绝缘喷头的喷气孔位于侧壁；所述多孔管本体的侧壁开设有侧壁凹槽；所述侧壁凹槽连通底部凹槽及喷气孔；所述多个分流导气流道的出气口流出的气体，分别通过底部凹槽与绝缘喷头底部的间隙，以及侧壁凹槽与绝缘喷头内侧壁的间隙，进入绝缘喷头的喷气孔。