[实用新型]一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置

说明书

本实用新型公开了一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置，包括沉积箱，气体箱，所述沉积箱的水平方向内表壁固定安装有限位块，两个所述限位块的内部开设有通槽，两个所述通槽的内部分别设置有丝杆一和丝杆二。本实用新型中，通过丝杆一、丝杆二、限位块、丝块的设置，利用丝杆一的转动带动齿轮盘一转动，齿轮盘一的转动通过齿轮盘三带动齿轮盘二转动，齿轮盘二的转动带动丝杆二转动，丝杆一和丝杆二的转动带动丝块在通槽内部上下移动，丝块的上下移动带动环形托盘在沉积箱内部上下运动，从而使得产品在沉积箱内部动态沉积，提高了沉积效率，增加了沉积设备的产能。

技术领域

本实用新型涉及碳化硅技术领域，尤其涉及一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置。

背景技术

碳化硅涂层是指采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备碳化硅涂层的方法，制备碳化硅涂层需要使用沉积设备，目前沉积设备进行沉积时待沉积的产品通常是静态放置，沉积过程较为缓慢，降低了沉积制备碳化硅涂层的效率，而且现有技术的气体箱通常是通过出气管与沉积箱直接连通，会出现出气管附近气体浓度大，气体分散不均匀的现象，从而使得碳化硅涂层制备不均匀，降低了碳化硅涂层的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：为了解决沉积设备沉积碳化硅涂层效率低和沉积箱内部气体分布不均匀的问题，而提出的一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置，包括沉积箱，气体箱，所述沉积箱的水平方向内表壁固定安装有限位块，两个所述限位块的内部开设有通槽，两个所述通槽的内部分别设置有丝杆一和丝杆二，所述丝杆一和丝杆二的顶部端部贯穿沉积箱的顶部内表壁分别套接有齿轮盘一和齿轮盘二，所述丝杆一的端部固定安装有驱动电机，所述沉积箱的内部设置有环形托盘，所述环形托盘的两侧端部均固定安装有丝块，所述丝块分别与丝杆一和丝杆二旋合连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述气体箱的底部连通有出气管，所述出气管的端部贯穿沉积箱的顶部内表壁延伸至内部，所述出气管上连接有分流管。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述分流管设置有三组，每组四个且分别位于四个方向。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述出气管的顶部端部套接有齿轮盘三。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述齿轮盘三分别与齿轮盘一和齿轮盘二啮合连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述环形托盘的内环直径大于二倍的分流管的长度加出气管的直径。

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，通过丝杆一、丝杆二、限位块、丝块的设置，利用丝杆一的转动带动齿轮盘一转动，齿轮盘一的转动通过齿轮盘三带动齿轮盘二转动，齿轮盘二的转动带动丝杆二转动，丝杆一和丝杆二的转动带动丝块在通槽内部上下移动，丝块的上下移动带动环形托盘在沉积箱内部上下运动，从而使得产品在沉积箱内部动态沉积，提高了沉积效率，增加了沉积设备的产能。

2、本实用新型中，通过出气管、分流管、齿轮盘三的设置，利用齿轮盘一的转动带动齿轮盘三转动，齿轮盘三的转动带动气体箱和出气管转动，出气管的转动带动分流管进行旋转，从而使得分流管在沉积箱内部进行多方位分散气体，保证了沉积箱内部气体分布更加均匀，提高碳化硅涂层的制备效果。

附图说明

图1示出了根据本实用新型实施例提供的一种制备全沉积高性能碳化硅涂层的装置主视结构示意图；