[实用新型]槽式设备及其风道结构有效
申请号: | 201921956590.X | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN210628256U | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 左国军;王靖;郑重一 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彦 |
地址: | 213000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 设备 及其 风道 结构 | ||
本实用新型公开了一种槽式设备及其风道结构。其中所述槽式设备包含至少2个处理槽,所述槽式设备的风道结构包括分别设置在每一个处理槽两端的进风装置和出风装置,对所述出风装置进行抽风使每一个处理槽的进风装置和出风装置之间形成独立风道的抽风装置。本实用新型可以防止设备内多个处理槽之间的有害气体相互反应,同时也防止有害气体溢出对设备或人体造成损害。
技术领域
本实用新型涉及槽式设备,尤其涉及槽式设备的风道结构。
背景技术
现有的槽式设备在太阳能硅片的处理过程中经常需要用到,具体包括了槽式清洗设备和槽式湿法处理设备,这些设备由于在对硅片的处理过程中涉及到了酸液和碱液的使用或处理,会导致设备的处理槽挥发出酸气和碱气,挥发出来的酸气或碱气若是不能及时排出处理,这些气体会对设备内一些零件造成腐蚀和对人体造成伤害,所以需将这些有害气体及时排除设备,同时将设备外部干净空气补入设备内部,目前现有技术中对于这些有害气体的处理都过于复杂,且酸气和碱气等多种气体容易混合,造成相应的损失。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有技术中槽式设备在工作中产生的多种有害气体容易混合的技术问题,提出一种槽式设备及其风道结构。
本实用新型提出槽式设备的风道结构,其中所述槽式设备包含至少2个处理槽,所述风道结构包括分别设置在每一个处理槽两端的进风装置和出风装置,对所述出风装置进行抽风使每一个处理槽的进风装置和出风装置之间形成独立风道的抽风装置。
具体的,所述进风装置包括设置在槽式设备门板上的第一进风口和设于所述第一进风口处的第一过滤器。
具体的,所述进风装置还包括设置在所述槽式设备顶部与第一进风口处于处理槽相同端的第二进风口,设于所述第二进风口处的第二过滤器。
具体的,所述出风装置包括轴向与槽式设备的门板平行的抽风道,所述抽风道的进风口在所述槽式设备内的高度位于所述第一、第二进风口之间,所述抽风道的出风口位于所述槽式设备的顶部,且相对所述处理槽位于所述第一、第二进风口的相对端。
具体的,所述槽式设备的相对门板的另一端设有设备仓,所述抽风道与所述设备仓相邻设置,所述设备仓设有连通所述抽风道的出风口,所述出风口处设有可调节出风开度的挡板。
优选的,所述门板上设有透明窗。
优选的,所述各处理槽对应的独立风道相互平行。
本发明提出的槽式设备,采用了上述技术方案所述的风道结构。
具体的,所述槽式设备为清洗设备或湿法处理设备
本发明将每一个处理槽对应的门板和其他风道结构一一配对,在每一个处理槽的两端的进风装置和出风装置任一配对单独形成风道,一条生产线中,会有若干的独立风道,通过外部大风量的抽风,形成大流量的立体风道系统;从处理槽后端的出风装置往设备外抽风,处理槽前端的门板和顶部进风,任意两条风道在设备内部不交叉,防止酸气与碱气反应,直接向上排出。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的局部立体示意图;
图3为本实用新型的一个剖面视图。
附图标记:1、处理槽,2、门板,3、透明观察窗,4、设备仓, 5、进风装置,6、出风装置,7、出风口,8、可调节的挡板,9、螺栓安装孔。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚,以下结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。应当理解,以下具体实施例仅用以解释本实用新型,并不对本实用新型构成限制。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造