[实用新型]一种晶圆湿法刻蚀系统

说明书

本实用新型涉及一种晶圆湿法刻蚀系统，包括：晶圆湿法刻蚀装置，包括控制器和晶圆刻蚀机台；刻蚀液供应装置，包括：第一和第二刻蚀液供应装置，第一刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第一储液容器、连接第一储液容器和晶圆刻蚀机台的第一管路以及设置在该第一管路上的第一阀门；第二刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第二储液容器、连接第二储液容器和晶圆刻蚀机台的第二管路以及设置在该第二管路上的第二阀门，第一刻蚀液供应装置还包括安装在第一储液容器中的第一连续式液位测量装置，第二刻蚀液供应装置还包括安装在第二储液容器中的第二连续式液位测量装置。

技术领域

本实用新型涉及一种晶圆湿法刻蚀系统，尤其涉及一种可连续侦测储存刻蚀液的储液容器内液位的晶圆湿法刻蚀系统。

背景技术

当前，用于晶圆的单片式刻蚀机台的刻蚀液供应装置通常具有至少两个储存刻蚀液的储液容器，每个储液容器均设置有位于不同液位处的接触式液位计。在两个储液容器之间进行切换来提供刻蚀液的供应。

一方面，当其中一个储液容器供应刻蚀液至其液位到达某一相对较低的液位时，由于采用了无法获取该液位时的精确液位的接触式液位计，因此对于不同刻蚀时长的配方，无法根据剩余刻蚀液的量智能计算待刻蚀晶圆的数量并执行该刻蚀操作。基于此，不宜再将该储液容器中的刻蚀液继续用于刻蚀晶圆，以避免此时存在储液容器内的刻蚀液不足以完成刻蚀单片晶圆的风险。另一方面，当该储液容器的剩余刻蚀液不足而对其进行刻蚀液的补充时，由于无法获取剩余刻蚀液的精确液位，从而无法计算所需的补酸量和浓度，综上所述，必须将该储液容器内剩余的刻蚀液排空，并且切换至另一个就绪的含足够量的刻蚀液的储液容器供应刻蚀液来完成后续晶圆的刻蚀。

由此可见，排空上述储液容器内剩余的刻蚀液造成浪费。因此，亟需一种能够克服上述缺陷的解决方案。

实用新型内容

为此，本实用新型提供一种用于晶圆刻蚀的刻蚀液供应装置。

本实用新型提供一种晶圆湿法刻蚀系统，包括：

晶圆湿法刻蚀装置，包括控制器和晶圆刻蚀机台；

刻蚀液供应装置，包括：

第一刻蚀液供应装置，所述第一刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第一储液容器、连接所述第一储液容器和所述晶圆刻蚀机台的第一管路以及设置在该第一管路上的第一阀门；和

第二刻蚀液供应装置，所述第二刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第二储液容器、连接所述第而二储液容器和所述晶圆刻蚀机台的第二管路以及设置在该第二管路上的第二阀门，

其特征在于，

所述第一刻蚀液供应装置还包括安装在所述第一储液容器中的第一连续式液位测量装置，所述第二刻蚀液供应装置还包括安装在所述第二储液容器中的第二连续式液位测量装置，

其中，所述第一和第二连续式液位测量装置配置为分别检测所述第一储液容器和所述第二储液容器中的刻蚀液液位，并将检测信号传输给所述控制器，

所述控制器配置为将获取的第一储液容器中的第一液位值和第二储液容器中的第二液位值与第一液位阈值比较并控制所述第一阀门和所述第二阀门的开启与闭合，以便使所述第一和第二刻蚀液供应装置能够实现连续向所述晶圆刻蚀机台提供所述刻蚀液。

在一个实施方式中，所述控制器配置为：

在第一阀门开启且第二阀门关闭时，比较所述第一液位值与所述第一液位阈值，且当所述第一液位值大于所述第一液位阈值且二者之差对应的液体量小于预定值时，控制所述第一阀门关闭和所述第二阀门开启；或者，