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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置-CN201911011890.5有效
发明人：陈浩;杨玉辉;李绪;熊泰贻;廖昌洋 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理液供应装置的控制方法及处理液供应装置，该处理液供应装置包括用于容纳对半导体待处理件进行湿法处理所需的处理液的储液容器，该处理液供应装置用于将储液容器内的处理液供应至执行湿法处理的处理装置；该控制方法包括：确定处理液供应装置的工作模式；相应于工作模式被确定为第一模式，判断储液容器内的处理液是否满足预设换液条件；若满足预设换液条件，则控制储液容器排出处理液；当处理液被排出至第一液位时，停止排出处理液并输入处理液直至储液容器的液面达第二液位；其中，第一液位为处理液未被排空的液位；控制储液容器向处理装置供应处理液。
一种处理供应装置控制方法

[发明专利]喷嘴和化学液槽装置-CN201810990145.9有效
发明人：徐融;孙文斌;苏界;杨永刚;蒋阳波;廖昌洋 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种喷嘴和化学液槽装置，所述喷嘴包括：喷嘴体；套于所述喷嘴体外部的套管，所述套管上具有至少两个朝向不同方向的喷孔。喷嘴在喷液过程中，可以具有多种喷液方向。
喷嘴化学装置

[发明专利]化学液槽装置-CN201810989226.7有效
发明人：徐融;孙文斌;苏界;杨永刚;蒋阳波;廖昌洋 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学液槽装置，包括：槽体，用于盛放化学液以及待处理的晶圆；三个以上的喷嘴，所述喷嘴为长条形，平行设置于所述槽体的内壁及底部处，与晶圆放置平面垂直，用于向所述槽体内喷入化学液，所述喷嘴的喷液方向与晶圆放置平面平行；各个喷嘴的喷液状态可单独控制。上述化学液槽装置的溶液均一性可控。
化学装置

[实用新型]一种混酸系统-CN201921795973.3有效
发明人：李绪;廖昌洋;熊泰贻;陈浩;杨玉辉 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： B01F13/10 文献下载
摘要：本实用新型提供一种混酸系统。所述混酸系统用于半导体材料蚀刻，包括用于容纳包含磷酸和多种添加剂的混合酸液的第一混酸槽，所述第一混酸槽与第一磷酸管路连接，所述第一磷酸管路通过中央供酸系统将异地存储的符合蚀刻要求的磷酸供应至所述第一混酸槽，所述混酸系统进一步包括：多个贮液槽，用于分别容纳所述多种添加剂，其中所述多个贮液槽的每一个通过相应的添加剂管路与所述第一磷酸管路连通；第二混酸槽，所述第二混酸槽通过混酸管路与所述第一混酸槽连接，并配置为接收来自所述第一混酸槽中的混合酸液，其中所述第二混酸槽还具有将所述混合酸液提供至用户的出口。
一种系统

[实用新型]一种晶圆湿法刻蚀系统-CN201921866659.X有效
发明人：熊佳瑜;李绪;陈浩;廖世旺;廖昌洋 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆湿法刻蚀系统，包括：晶圆湿法刻蚀装置，包括控制器和晶圆刻蚀机台；刻蚀液供应装置，包括：第一和第二刻蚀液供应装置，第一刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第一储液容器、连接第一储液容器和晶圆刻蚀机台的第一管路以及设置在该第一管路上的第一阀门；第二刻蚀液供应装置包括用于容纳刻蚀液的第二储液容器、连接第二储液容器和晶圆刻蚀机台的第二管路以及设置在该第二管路上的第二阀门，第一刻蚀液供应装置还包括安装在第一储液容器中的第一连续式液位测量装置，第二刻蚀液供应装置还包括安装在第二储液容器中的第二连续式液位测量装置。
一种湿法刻蚀系统

[实用新型]过滤装置-CN201821588059.7有效
发明人： 廖昌洋;杨永刚;蒋阳波;顾立勋;徐融 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： B01D35/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种过滤装置。所述过滤装置包括：过滤器，包括输入端以及与所述输入端相对的输出端，用于对自所述输入端输入的液体进行过滤；吹扫部，用于自所述输入端向所述过滤器传输吹扫气体，以将所述过滤器内的残留液体自所述输出端排出。本实用新型加速了过滤器内部残留液体的排出速度，缩短了过滤装置的维护时间，减少了人力成本。
过滤器过滤装置输入端本实用新型残留液体输出端排出半导体制造技术吹扫气体人力成本吹扫过滤传输维护

[发明专利]过滤装置及其维护方法-CN201811129902.X在审
发明人： 廖昌洋;杨永刚;蒋阳波;顾立勋;徐融 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： B01D35/16 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种过滤装置及其维护方法。所述过滤装置包括：过滤器，包括输入端以及与所述输入端相对的输出端，用于对自所述输入端输入的液体进行过滤；吹扫部，用于自所述输入端向所述过滤器传输吹扫气体，以将所述过滤器内的残留液体自所述输出端排出。本发明加速了过滤器内部残留液体的排出速度，缩短了过滤装置的维护时间，减少了人力成本。
过滤器过滤装置输入端残留液体输出端排出半导体制造技术吹扫气体人力成本维护吹扫过滤传输

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