[实用新型]一种真空镀膜的沉积装置

权利要求书

1.一种真空镀膜的沉积装置，其特征在于：该种真空镀膜的沉积装置包括机架、沉积室、轴套、转轴、从动带轮、电机、主动带轮、齿形皮带和旋转组件，所述机架上固定有沉积室，沉积室底部安装有轴套，轴套里通过轴承插装有转轴，转轴底部安装有从动带轮，机架侧端还设有电机，电机的电机轴上安装有主动带轮，从动带轮和主动带轮通过齿形皮带连接，沉积室内的转轴上设置有旋转组件。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的沉积装置，其特征在于：所述沉积室包括腔体、腔体上盖、腔体下盖、进料法兰连接管、出料连接管和观察窗口，所述腔体呈桶状，腔体上部和上部分别安装有腔体下盖和腔体上盖，腔体中部两侧分别连接有进料法兰连接管和出料连接管，所述进料法兰连接管与裂解管的对接法兰固定连接，出料连接管连接到制冷机，腔体前部还设置有观察窗口，腔体上还设置有偶联剂接口和两真空探头接口。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜的沉积装置，其特征在于：所述旋转组件包括底盘、连接杆、隔板和PCV管，所述底盘固定于转轴上，底盘上竖直固定有三根连接杆，连接杆上等距套有隔板，隔板为1层～30层，相邻隔板之间的连接杆上套有PCV管。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜的沉积装置，其特征在于：所述隔板上设有蜂窝孔。