[发明专利]集成电路铜板粗糙度提升装置有效
申请号: | 201911423035.5 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN111093332B | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 胡荣华 | 申请(专利权)人: | 重庆市和鑫达电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/38 | 分类号: | H05K3/38 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 廖龙春 |
地址: | 402460 重庆市荣昌区*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成电路 铜板 粗糙 提升 装置 | ||
1.集成电路铜板粗糙度提升装置,包括底座和与底座连接的转动辊,其特征在于:所述转动辊上固定有若干柔性撞击部,所述底座转动连接有转盘,转盘上转动连接有多个放置组件,放置组件包括翻转板,翻转板上设有可运动至转动辊下方的放置槽,翻转板的上、下表面分别滑动连接有可覆盖放置槽的滑板;所述转盘上设有矩形孔,翻转板内嵌式设置于矩形孔内,翻转板边缘固定有同轴线的转轴和连接轴,转轴和连接轴均与转盘转动连接;所述转轴固定连接有齿轮,底座固定连接有可与齿轮啮合的齿条;所述底座固定连接推板,推板位于转盘上方,推板边缘为弧形,推板的边缘在转盘运动方向上逐渐远离转盘圆心,推板可与翻转板上表面上的滑板相抵。
2.根据权利要求1所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述底座固定连接有弧形架一和弧形架二,弧形架一和弧形架二上均设有所述转动辊。
3.根据权利要求2所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述弧形架二上固定连接有弧形板,弧形板在转盘运动方向上逐渐靠近转盘圆心,弧形板可与翻转板上表面上的滑板相抵。
4.根据权利要求3所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述转轴上套设有摩擦片,摩擦片一面与转盘相抵,另一面与齿轮端面之间设有弹性件。
5.根据权利要求1-4任一项所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述翻转板与转盘之间设有定位结构。
6.根据权利要求5所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述定位结构包括滑柱,翻转板上设有可与滑柱配合的凹槽,转盘上设有可与滑柱配合的滑槽,滑槽内还设有可推动滑柱的推力弹簧。
7.根据权利要求6所述的集成电路铜板粗糙度提升装置,其特征在于:所述滑柱靠近翻转板的一端为球面形状,凹槽为弧形槽。
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