[发明专利]正负压接口的ESD防护装置在审

专利信息
申请号: 201911346587.0 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN111009511A 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 谷欣明;钟晓宇;吴子奇;王锁成;刘枫;汪军民;陈培元;代雨珊;李际浩 申请(专利权)人: 上海贝岭股份有限公司
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L27/02
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;张冉
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 正负 接口 esd 防护 装置
【权利要求书】:

1.一种正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,包括一半导体基片、第一接口端,所述半导体基片的上部设置有第一掺杂区域,所述第一掺杂区域包括依次相邻的第一p阱、第一n阱、第二p阱;

所述第一p阱的上部自左向右依次设置有第一p型重掺杂区、第一n型重掺杂区、第二p型重掺杂区;

所述第二p阱的上部自左向右依次设置有第三p型重掺杂区、第二n型重掺杂区、第四p型重掺杂区;

所述第一p阱与所述第一n阱的相邻部的上部设置有第三n型重掺杂区;所述第二p阱与所述第一n阱的相邻部的上部设置有第四n型重掺杂区;

所述第二n型重掺杂区和所述第四p型重掺杂区接地;

所述第一p型重掺杂区和所述第一n型重掺杂区分别与所述第一接口端电连接,

所述第一接口端用于与所述正负压接口电连接。

2.如权利要求1所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述ESD防护装置还包括第二n阱,所述第二n阱为U形,所述第二n阱包围所述第一掺杂区域。

3.如权利要求2所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第二n阱的下方设置有NBL。

4.如权利要求3所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第一p阱、所述第一n阱、所述第二p阱和所述第二n阱的上表面均设置有FOX。

5.如权利要求4所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第一p阱和所述第二p阱均为标准p阱。

6.如权利要求5所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第一n阱为标准n阱。

7.如权利要求6所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第二n阱为深n阱。

8.如权利要求6所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述第二n阱为高压n阱。

9.如权利要求6所述的正负压接口的ESD防护装置,其特征在于,所述半导体基片为左右对称结构。

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