[发明专利]一种钙钛矿薄膜的制备方法及其在太阳能电池中的应用有效
申请号: | 201911156823.2 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN110854274B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 袁永波;罗师强;蔺云;王继飞 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 长沙永星专利商标事务所(普通合伙) 43001 | 代理人: | 何方 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钙钛矿 薄膜 制备 方法 及其 太阳能电池 中的 应用 | ||
1.一种钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,包括:所述的钙钛矿包括但不限于铅基钙钛矿、B位以铅元素为主导的多组分钙钛矿,在配制钙钛矿前驱体溶液中,通过加入添加剂AX,调控溶剂化的BX2化合物及其复合物的形成速率和密度,控制溶剂化的BX2化合物及其复合物的偏析结晶;
采用溶液涂膜法将钙钛矿前驱体溶液涂覆于基底上,控制溶液局部区域的温度、挥发速率,控制溶剂化的BX2化合物及其复合物在不同区域上的偏析结晶,得到结晶性好、形貌均匀的钙钛矿薄膜;
所述的添加剂AX结构式中,A表示为NH4+,CH3NH3+,NH2CHNH2+,CH3NH2CH3+ 中的任意一种;X表示为Cl-,Br-,I-,SCN-,CH3COO−中的任意一种;
所述的BX2化合物中,X为I,Br,Cl中的任意一种,B为Pb,或者以Pb为主导的多金属元素组合物;
所述钙钛矿形核过程的调控方法,包括以下步骤:
(1)分别称取PbI2和碘化甲铵,溶解于DMF溶剂中,得到PbI2/DMF溶液、MAI/DMF溶液;
(2)将丁胺加入步骤(1)所得MAI/DMF溶液中,得到碘化甲铵和碘化丁铵的混合溶液;
(3)称取添加剂AX溶解于步骤(1)所得PbI2/DMF溶液,加热处理,直至添加剂AX完全溶解,控制摩尔比AX/PbI2为0.05~5;
(4)将步骤(2)和步骤(3)配制的溶液混合均匀,静置老化,得到二维层状钙钛矿前驱体溶液,结构式为BA2MAn-1PbnI3n+1,n=4;
(5)采用溶液涂膜法将二维钙钛矿前驱体溶液涂覆于基底上,退火处理,控制溶液局部区域的温度、挥发速率来控制溶剂化的PbI2化合物在不同区域上的偏析结晶,诱导涂覆薄膜表面准三维钙钛矿的偏析析出,得到结晶性好、形貌均匀的二维钙钛矿薄膜。
2.根据权利要求1所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(1)中,所述PbI2/DMF溶液的浓度为400~600mg/ml;MAI/DMF溶液的浓度为400~600mg/ml。
3.根据权利要求1所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(2)中,所述碘化丁铵和碘化甲铵的摩尔比为 2:(1~9)。
4.根据权利要求1所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(3)中,所述添加剂AX为NH4Cl。
5.根据权利要求1所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(5)中,所述溶液涂膜法包括旋涂法、刮涂法、喷涂法、狭缝涂布法、提拉法中的任意一种。
6.根据权利要求5所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(5)中,采用旋涂法制备钙钛矿薄膜:将二维钙钛矿前驱体溶液在4000~6000rpm转速下旋涂于基底上;
采用刮涂法制备钙钛矿薄膜:将二维钙钛矿前驱体溶液在1~100mm/s速度下刮涂于基底上,刮涂过程需要热风吹薄膜,诱导涂覆薄膜表面准三维钙钛矿的偏析析出。
7.根据权利要求1、5和6中任一项所述钙钛矿形核过程的调控方法,其特征在于,步骤(5)中,所述退火处理为:先50~80℃退火0~10分钟,然后90~150℃退火5~60min。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择