[发明专利]一种铁电二极管储存器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911126163.3 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN111146338B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 樊贞;田浚江;赵磊;谭政伟 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 广州骏思知识产权代理有限公司 44425 代理人: 吴静芝
地址: 510006 广东省广州市番禺区外*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 二极管 储存器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种铁电二极管储存器,其特征在于:包括依序层叠设置的单晶衬底、氧化物底电极、和BFO铁电薄膜,若干金属电极相互间隔地设置在所述BFO铁电薄膜表面;所述BFO铁电薄膜为外延铁电薄膜,所述BFO铁电薄膜的厚度为10-40nm;单个所述金属电极的面积小于0.3平方微米。

2.根据权利要求1所述的铁电二极管储存器,其特征在于:单个所述金属电极的面积为0.1-0.2平方微米。

3.根据权利要求1所述的铁电二极管储存器,其特征在于:所述单晶衬底为晶体取向为(001)的LaAlO3、(La,Sr)(Al,Ta)O3和SrTiO3中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的铁电二极管储存器,其特征在于:所述金属电极为Co、Ag和Au中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的铁电二极管储存器,其特征在于:所述氧化物底电极为SrRuO3、LaNiO3和La0.7Sr0.3MnO3中的任意一种。

6.一种铁电二极管储存器的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1、在单晶衬底上沉积形成一层氧化物底电极;

S2、在氧化物底电极表面沉积形成一层BFO铁电薄膜,并控制所述BFO铁电薄膜的生长方向为外延生长,形成BFO外延铁电薄膜,所述BFO铁电薄膜的厚度为10-40nm;

S3、在BFO外延铁电薄膜的表面沉积若干相互间隔的金属电极,并控制单个所述金属电极的面积小于0.3平方微米。

7.根据权利要求6所述的铁电二极管储存器的制备方法,其特征在于:在步骤S3中,具体包括:将步骤S2制得的BFO外延铁电薄膜放置在丙酮溶液中浸泡,再通过超声波清洗、干燥后,在所述BFO外延铁电薄膜表面铺设一层若干聚苯乙烯小球作为模板,在聚苯乙烯小球之间空隙中的BFO外延铁电薄膜表面沉积形成若干金属电极,再将所述若干聚苯乙烯小球除去。

8.根据权利要求7所述的铁电二极管储存器的制备方法,其特征在于:所述若干聚苯乙烯小球排列形成若干行,每一行中的相邻两个小球相切;位于不同行中的每相邻的三个小球两两相切,每个金属电极沉积在三个小球中心形成的空隙中,形成三角形状的金属电极。

9.根据权利要求8所述的铁电二极管储存器的制备方法,其特征在于:所述聚苯乙烯小球模板的小球直径为200-700nm,获得单个所述金属电极的面积为0.10-0.20平方微米。

10.根据权利要求6所述的铁电二极管储存器的制备方法,其特征在于:在步骤S2中,采用激光脉冲法在晶体取向为(001)的单晶衬底上的氧化物底电极表面沉积形成BFO铁电薄膜,获得BFO外延铁电薄膜,通过控制激光脉冲数控制所述BFO外延铁电薄膜的厚度为10-40nm。

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