[发明专利]加热装置及化学气相沉积系统

说明书

本发明提供一种包括承载台、多个载盘、第一加热器以及第二加热器的加热装置被提出。承载台具有公转轴。多个载盘设置于承载台上。承载台带动这些载盘以公转轴为中心而公转。第一加热器设置于承载台下。第一加热器在公转轴的径向上具有第一宽度。第二加热器设置于承载台下。第二加热器与第一加热器彼此分离开来。第二加热器在公转轴的径向上具有第二宽度，且第一宽度不等于第二宽度。一种采用加热装置的化学气相沉积系统亦被提出。

技术领域

本发明涉及一种成膜设备，尤其涉及一种加热装置及化学气相沉积系统。

背景技术

在发光二极管材料的操作性能以及可靠性不断地提升下，其应用的领域也逐渐多元化，例如照明装置、显示器、背光模块等。为了满足各种使用需求下的性能规格，不同样式或材料组成的发光二极管元件不断地挑战相关厂商的设计与量产能力。举例来说，应用于显示器的微型发光二极管，其磊晶层的膜厚均匀性需要达到一定的水准才能满足所需的显示品质(例如演色性或显示面的亮度均匀性)要求。

在形成微型发光二极管元件的磊晶薄膜的制造过程中，化学气相沉积(chemicalvapor deposition，CVD)技术是较常使用的技术手段之一。为了取得均匀性较佳的磊晶薄膜，化学气相沉积设备的腔室内大都置入可旋转的承载台(susceptor)与多个载盘(satellite disc)。载盘用以承载磊晶基板并相对于一自转轴转动而形成一自转系统，承载台用以带动这些载盘相对于一公转轴转动而形成一公转系统。当磊晶基板由加热器获得热能时，载盘的公转与自转有助于提升磊晶基板的温度均匀性。

然而，伴随着磊晶基板尺寸的增加以及发光二极管元件尺寸的缩减，上述的承载台与载盘的配置关系已无法满足磊晶基板于成膜时所需的温度均匀性。

发明内容

本发明提供一种加热装置，可使磊晶基板的温度均匀性较佳。

本发明提供一种化学气相沉积系统，具有较佳的成膜均匀性。

本发明的加热装置，包括承载台、多个载盘、第一加热器以及第二加热器。承载台具有公转轴。多个载盘设置于承载台上。承载台带动这些载盘以公转轴为中心而公转。第一加热器设置于承载台下。第一加热器在公转轴的径向上具有第一宽度。第二加热器设置于承载台下。第二加热器与第一加热器彼此分离开来。第二加热器在公转轴的径向上具有一第二宽度，且第一宽度不等于第二宽度。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的载盘具有载盘直径，且第一宽度与载盘直径的比值大于0.5且小于1。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的第一加热器具有第一温度，第二加热器具有第二温度，且第一温度不等于第二温度。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置还包括第三加热器，设置于承载台下。第三加热器、第二加热器与第一加热器彼此分离开来。第三加热器在公转轴的径向上具有第三宽度，且第三宽度不等于第一宽度与第二宽度。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的各载盘于承载台上的垂直投影部分重叠于第一加热器在承载台上的垂直投影，且第一加热器于载盘上的垂直投影面积与载盘的表面积的比值大于等于0.4且小于等于0.9。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的各载盘的对称中心重叠于第一加热器在这些载盘上的垂直投影。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的多个载盘与承载台之间在公转轴的轴向上分别具有间隙。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的多个载盘的第一载盘与承载台之间在公转轴的轴向上具有第一间距，多个载盘的第二载盘与承载台之间在公转轴的轴向上具有第二间距，且第一间距不等于第二间距。