[发明专利]加热装置及化学气相沉积系统在审
| 申请号: | 201911074626.6 | 申请日: | 2019-11-06 | 
| 公开(公告)号: | CN110629201A | 公开(公告)日: | 2019-12-31 | 
| 发明(设计)人: | 吴俊德;赖彦霖;陈佶亨 | 申请(专利权)人: | 錼创显示科技股份有限公司 | 
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458 | 
| 代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 罗英;臧建明 | 
| 地址: | 中国台湾新竹科学园*** | 国省代码: | 中国台湾;TW | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 加热器 第一加热器 公转轴 承载台 载盘 加热装置 承载 化学气相沉积系统 彼此分离 | ||
1.一种加热装置,包括:
承载台,具有公转轴;
多个载盘,设置于所述承载台上,其中所述承载台带动所述多个载盘以所述公转轴为中心而公转;
第一加热器,设置于所述承载台下,其中所述第一加热器在所述公转轴的径向上具有第一宽度;以及
第二加热器,设置于所述承载台下,所述第二加热器与所述第一加热器彼此分离开来,其中所述第二加热器在所述公转轴的径向上具有第二宽度,且所述第一宽度不等于所述第二宽度。
2.根据权利要求1所述的加热装置,其中所述载盘具有载盘直径且所述第一宽度与所述载盘直径的比值大于0.5且小于1。
3.根据权利要求1所述的加热装置,其中所述第一加热器具有第一温度,所述第二加热器具有第二温度,且所述第一温度不等于所述第二温度。
4.根据权利要求1所述的加热装置,还包括:
第三加热器,设置于所述承载台下,所述第三加热器、所述第二加热器与所述第一加热器彼此分离开来,其中所述第三加热器在所述公转轴的径向上具有第三宽度,且所述第三宽度不等于所述第一宽度与所述第二宽度。
5.根据权利要求1所述的加热装置,其中各所述载盘于所述承载台上的垂直投影部分重叠于所述第一加热器在所述承载台上的垂直投影,且所述第一加热器于所述载盘上的垂直投影面积与所述载盘的表面积的比值大于等于0.4且小于等于0.9。
6.根据权利要求1所述的加热装置,其中各所述载盘的对称中心重叠于所述第一加热器在所述多个载盘上的垂直投影。
7.根据权利要求1所述的加热装置,其中所述多个载盘与所述承载台之间在所述公转轴的轴向上分别具有间隙。
8.根据权利要求7所述的加热装置,其中所述多个载盘的第一载盘与所述承载台之间在所述公转轴的轴向上具有第一间距,所述多个载盘的第二载盘与所述承载台之间在所述公转轴的轴向上具有第二间距,且所述第一间距不等于所述第二间距。
9.一种化学气相沉积系统,包括:
腔室;
加热装置,设置于所述腔室内,所述加热装置包括:
承载台,具有公转轴;
多个载盘,设置于所述承载台上,其中所述承载台带动所述多个载盘以所述公转轴为中心而公转;
第一加热器,设置于所述承载台下,其中所述第一加热器在所述公转轴的径向上具有第一宽度;以及
第二加热器,设置于所述承载台下,所述第二加热器与所述第一加热器彼此分离开来,其中所述第二加热器在所述公转轴的径向上具有第二宽度,且所述第一宽度不等于所述第二宽度;
旋转驱动机构,连接所述承载台并带动所述承载台旋转;以及
进气单元,设置于所述腔室内并位于所述承载台上方。
10.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统,其中所述载盘具有载盘直径,且所述第一宽度与所述载盘直径的比值大于0.5且小于1。
11.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统,其中所述第一加热器具有第一温度,所述第二加热器具有第二温度,且所述第一温度不等于所述第二温度。
12.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统,其中各所述载盘于所述承载台上的垂直投影部分重叠于所述第一加热器在所述承载台上的垂直投影,且所述第一加热器于所述载盘上的垂直投影面积与所述载盘的表面积的比值大于等于0.4且小于等于0.9。
13.根据权利要求9所述的化学气相沉积系统,其中各所述载盘的对称中心重叠于所述第一加热器在所述多个载盘上的垂直投影。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于錼创显示科技股份有限公司,未经錼创显示科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911074626.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体处理设备
- 下一篇:一种改善电池片发灰的镀膜工艺
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





