[发明专利]具有透明电极的显示基板及其制备方法

权利要求书

1.一种具有透明电极的显示基板，其特征在于，包括：

透明基板，所述透明基板设置有图案化的孔道；

透明电极，包括MXene材料和聚乙烯吡咯烷酮的复合材料，所述透明电极填充于所述图案化的孔道内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透明基板为柔性玻璃基板、可熔性聚四氟乙烯基板或柔性聚酰亚胺基板。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述MXene材料为二维二碳化三钛或者二维碳化钛。

4.一种具有透明电极的显示基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供刻蚀液，加入MAX材料至所述刻蚀液中，得到含有多层MXene材料的第一悬浊液；

步骤2、将二甲基亚砜加入所述第一悬浊液中，得到单层MXene材料；

步骤3、将所述单层MXene材料加入聚乙烯吡咯烷酮溶液中，得到第二悬浊液；

步骤4、在透明基板的图案化的孔道内加入所述第二悬浊液，加热固化，形成透明电极。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤1中还包括加入MAX材料至所述刻蚀液中进行搅拌，然后对所述蚀刻后的MAX材料进行洗涤，所述刻蚀液为氢氟酸水溶液。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液的搅拌温度为20～80℃，搅拌时间为6～20h。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述洗涤是用去除氧的去离子水将所述蚀刻后的MAX材料洗涤至pH值为6～7。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2中还包括对所述多层MXene材料进行单层剥离和洗涤。

9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述单层MXene材料的厚度为2nm。

10.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤4中所述孔道是通过利用光刻或者模板剂占位的方式制得。