[发明专利]膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法在审
申请号: | 201910960886.7 | 申请日: | 2019-10-11 |
公开(公告)号: | CN111048440A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 黑泽博史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G03F7/00;G03F7/09;G03F7/095 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 装置 方法 以及 物品 制造 | ||
本发明涉及膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法。一种用于在基板上形成膜的膜形成装置包括:驱动器,被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触;加热器,被配置为通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合平坦表面;以及固化设备,被配置为通过在可固化组合物贴合平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。
技术领域
本发明涉及一种膜形成装置、膜形成方法以及物品的制造方法。
背景技术
光刻技术用于制造诸如半导体器件的物品。光刻技术包括以下工序:通过使用曝光装置将原版的图案转印到布置在基板上的光致抗蚀剂膜来形成潜像图案,以及通过对潜像图案进行显影来形成抗蚀剂图案。随着曝光装置的分辨率的提高,曝光装置的投影光学系统的焦深已经变得极其狭窄。例如,在用于形成5nm至7nm的线和间隔图案的扫描曝光装置中,曝光狭缝所需的三维精度为4nm或更低。因此,在存在于基板的表面上的下层图案上形成平坦化膜,并且可以在平坦化膜上布置光致抗蚀剂膜。
美国专利No.7455955公开了一种方法,其中在包括形貌特征的基板上形成平坦化层,并且通过使平坦表面与平坦化层接触而固化平坦化层。在足以将平坦表面的平坦度转印到平坦化表面上的压力和温度下进行一段时间的平坦化层与平坦表面之间的接触。美国专利No.7455955公开了接触时的温度通常落入环境温度至350℃的范围内。然而,美国专利No.7455955没有公开在使平坦表面与平坦化层接触的工序中可以使用哪种方法来加热平坦化层。
发明内容
本发明提供一种有利于在基板上有效地形成平坦化膜的技术。
本发明的第一方面提供了一种在基板上形成膜的膜形成装置,所述膜形成装置包括:驱动器,被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触;加热器,被配置为通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合(conform to)所述平坦表面;以及,固化设备,被配置为通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。
本发明的第二方面提供了一种在基板上形成膜的膜形成装置,所述膜形成装置包括:基板保持器,被配置为保持基板;驱动器,被配置为使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触;加热器,被设置到基板保持器,且被配置为经由基板加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦表面;以及,固化设备,被配置为通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。
本发明的第三方面提供一种物品的制造方法,所述方法包括:通过本发明的第一或第二方面中所限定的膜形成装置,在基板上形成由可固化组合物的固化产物制成的膜;在所述膜上布置光敏材料;通过对光敏材料进行曝光来形成图案;以及,通过使用所述图案来加工基板,其中,所述物品是从该基板制造的。
本发明的第四方面提供了一种用于在基板上形成膜的膜形成方法,所述方法包括:使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触;通过电磁波加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦表面;以及,通过在可固化组合物贴合所述平坦表面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。
本发明的第五方面提供了一种用于在基板上形成膜的膜形成方法,所述方法包括:加热被配置为保持基板的基板保持器;将基板布置在基板保持器上;使布置在基板上的可固化组合物与平坦表面相互接触;以及,通过在已经在基板保持器的加热中经由基板加热可固化组合物以降低可固化组合物的粘度并使可固化组合物贴合所述平坦平面的状态下使可固化组合物固化来形成由可固化组合物的固化产物制成的膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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