[发明专利]利用平板式PECVD设备沉积双面PERC电池背面薄膜的方法在审
申请号: | 201910783401.1 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN112481600A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 许烁烁;刘舟;陈特超 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/30;C23C16/34;C23C16/511;C23C16/455;C23C16/52;H01L31/18;H01L31/056;H01L31/0216;H01L31/068 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 平板 pecvd 设备 沉积 双面 perc 电池 背面 薄膜 方法 | ||
本发明公开了一种利用平板式PECVD设备沉积双面PERC电池背面薄膜的方法,包括步骤S1在硅片背面沉积氧化铝薄膜,S2:在硅片背面沉积氮氧化硅薄膜:S2.1将平板式PECVD设备的反应腔体抽真空至0.3mbar以下,然后加热反应腔体;S2.2将工艺气体通入反应腔体,并将1~2对微波发生器产生的微波导入反应腔体;S3:在硅片背面沉积氮化硅薄膜:S3.1将反应腔体抽真空至0.3mbar以下,然后加热反应腔体;S3.2将工艺气体通入反应腔体内,并将多对微波发生器产生的微波导入反应腔体。本发明具有正面电池的转换效率高、双面率高、抗衰减率低、反应时间短、生产效率高等优点。
技术领域
本发明涉及太阳能电池制备方法,尤其涉及一种利用平板式PECVD设备沉积双面PERC电池背面薄膜的方法。
背景技术
PERC(Passivated Emitter and Rear Cell)电池已成为光伏产业的市场主流电池技术,双面PERC电池是以PERC电池为基础,在不增加成本的前提下增加电池综合发电量,在光伏市场中引起极大的关注。双面PERC电池的双面均可受光发电,具有优良的双玻封装可靠性。常规双面PERC电池生产中在硅片背面先后沉积氧化铝和氮化硅钝化膜,由于该钝化膜中,缺少杂质离子阻挡层,在高温高湿情况下,钠离子容易穿过钝化膜到达硅片背面,造成常规双面PERC电池的背面衰减率明显高于正面,甚者可达到30%。为此本领域提出了在硅片背面先后沉积氧化铝、氮氧化硅及氮化硅薄膜的技术方案,其中氮氧化硅薄膜对杂质离子具有良好的阻挡作用,且钝化效果良好,结合两边的氧化铝和氮化硅薄膜,能减少双面PERC电池背面的光电转换效率损失,并能增强PERC电池的抗PID性能。但是受制备方法的限制,在正面电池的转化率、双面率、PID衰减率及反应时间等几个方面仍然存在一定的不足。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种正面电池的转换效率高、双面率高、抗衰减率低、反应时间短的利用平板式PECVD设备沉积双面PERC电池背面薄膜的方法。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
一种利用平板式PECVD设备沉积双面PERC电池背面薄膜的方法,包括步骤S1在硅片背面沉积氧化铝薄膜,还包括步骤:
S2:在硅片背面沉积氮氧化硅薄膜:
S2.1将平板式PECVD设备的反应腔体抽真空至0.3mbar以下,然后加热反应腔体;
S2.2将工艺气体通入反应腔体,并将1~2对微波发生器产生的微波导入反应腔体,工艺气体吸收微波能量后产生等离子体,等离子体被反应腔体内部的磁场加速后形成等离子体场;
其中,每对微波发生器中,左右微波发生器的峰值功率均为3000W~6000W,一个脉冲周期中,脉冲打开时间为6ms~10ms,脉冲关闭时间为6ms~10ms,微波频移0%~50%;所述工艺气体为硅烷、氨气和笑气;每对微波发生器的工艺气体流量为:氨气500sccm~1500sccm、笑气500sccm~1500sccm且硅烷250sccm~500sccm;加热温度为350℃~500℃;工艺过程中反应腔体内压力保持在0.2mbar~0.3mbar;工艺传送速率为200cm/min~400cm/min;
S3:在硅片背面沉积氮化硅薄膜:
S3.1将反应腔体抽真空至0.3mbar以下,然后加热反应腔体;
S3.2将工艺气体通入反应腔体内,并将多对微波发生器产生的微波导入反应腔体,工艺气体吸收微波能量后产生等离子体,等离子体被反应腔体内部的磁场加速后形成等离子体场;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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