[发明专利]阵列基板的制备方法及阵列基板

说明书

本申请提供一种阵列基板的制备方法及阵列基板，该方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板上形成图案化的有源层；在所述有源层上形成绝缘层；在所述绝缘层上形成第一金属层，所述第一金属层包括栅极；采用同一光罩在所述第一金属层上形成图案化的层间介质层和像素电极层；在所述层间介质层上形成第二金属层，所述第二金属层包括源极、漏极和触控信号线；在所述第二金属层上形成图案化的保护层和公共电极层。本申请通过将层间介质层和像素电极层共用一光罩，形成图案化的层间介质层和像素电极层，不但节省一个光罩，而且省略了有机平坦层。

技术领域

本申请涉及一种显示技术，特别涉及一种阵列基板的制备方法及阵列基板。

背景技术

随着集成式触控显示面板的发展，人们对高分辨率的要求越来越高。因此需要精细的有源驱动矩阵(阵列基板)配合各像素区液晶进行偏转。

但是现有技术中的触控集成式的阵列基板的制备方法步骤较为繁琐，导致生产成本较高和周期较长。

发明内容

本申请实施例提供一种阵列基板的制备方法及阵列基板，以解决现有的触控集成式的阵列基板的制备方法步骤较为繁琐，导致生产成本较高和周期较长的技术问题。

本申请实施例提供一种阵列基板的制备方法，其包括以下步骤：

提供一基板；

在所述基板上形成图案化的有源层；

在所述有源层上形成绝缘层；

在所述绝缘层上形成图案化的第一金属层；

采用同一光罩在所述第一金属层上形成图案化的层间介质层和像素电极层，图案化的像素电极层包括像素电极；

在所述层间介质层上形成图案化的第二金属层，图案化的第二金属层包括漏极和触控信号线，所述漏极电性连接于所述像素电极；

在所述第二金属层上形成图案化的保护层和公共电极层，图案化的公共电极层包括触控电极，所述触控电极电性连接于所述触控信号线。

在本申请的阵列基板的制备方法中，所述采用同一光罩在所述第一金属层上形成图案化的层间介质层和像素电极层，包括以下步骤：

依次在所述第一金属层上形成层间介质层、像素电极层和第一光阻层；

采用第一半色调光罩对所述第一光阻层进行曝光，随后对所述第一光阻层进行显影，使所述第一光阻层对应于所述有源层的源/漏极区域的部分形成第一通孔、和对应于所述第二金属层中待形成触控信号线的部分形成第一凹陷部，其中所述第一光阻层对应于所述有源层的源极区域的第一通孔连通所述第一凹陷部；

刻蚀所述像素电极层和所述层间介质层，使所述第一通孔暴露出所述有源层的源/漏极区域；

灰化所述第一光阻层，以去除所述第一光阻层对应于所述第一凹陷部的部分；

刻蚀所述像素电极层，以去除所述像素电极层对应于所述第一凹陷部的部分；

去除所述第一光阻层。

在本申请的阵列基板的制备方法中，所述第一半色调光罩包括第一透光部和第二透光部，所述第一透光部的透光率大于所述第二透光部的透光率，所述第一透光部的透光率为100％，所述第一透光部对应所述有源层的源/漏极区域，所述第二透光部对应于所述第二金属层中待形成触控信号线的部分。

在本申请的阵列基板的制备方法中，采用同一光罩在所述第二金属层上形成图案化的保护层和公共电极层。

在本申请的阵列基板的制备方法中，所述采用同一光罩在所述第二金属层上形成图案化的保护层和公共电极层，包括以下步骤：

依次在所述第二金属层上形成保护层和第二光阻层；