[发明专利]监测系统及监测方法

权利要求书

1.一种监测系统，包括：

一吸座；

多个沟槽导管，布置围绕在该吸座上的一标称晶圆位置的一圆周；

一气源，与所述多个沟槽导管流体连通；

一流量监测器，配置以判断从该气源至所述多个沟槽导管的一单独一者的一气体流量；以及

一处理器，操作地耦接至该流量监测器，

其中每一沟槽导管包括一锥形部分，该锥形部分随着远离该标称晶圆位置的一中心的距离而在面积上变化，

其中该处理器基于从该气源至所述多个沟槽导管的该单独一者的该气体流量而判断一晶圆偏移。

2.如权利要求1所述的监测系统，其中该锥形部分沿远离该标称晶圆位置的该中心的一最大距离以一曲线布置。

3.如权利要求1所述的监测系统，其中所述多个沟槽导管布置为两个同心环，每一环包括至少两个沟槽导管。

4.如权利要求3所述的监测系统，其中该两个同心环的一者包括比另一者更多的沟槽导管。

5.如权利要求1所述的监测系统，其中所述多个沟槽导管布置为一外环及一内环，其中该外环与该内环同心，且该外环包括比该内环更多的沟槽导管。

6.如权利要求1所述的监测系统，其中所述多个沟槽导管包括一三角形形状。

7.如权利要求1所述的监测系统，其中所述多个沟槽导管包括为环形的至少四个沟槽导管。

8.一种监测系统，包括：

一吸座；

多个沟槽导管，布置围绕在该吸座上的一标称晶圆位置的一圆周，其中每一沟槽导管包括一锥形部分，该锥形部分随着远离该标称晶圆位置的一中心的距离而在面积上减小；

一气源，与所述多个沟槽导管流体连通；

一流量监测器，配置以判断从该气源至所述多个沟槽导管的一单独一者的一气体流量；以及

一处理器，操作地耦接至该流量监测器，

其中该处理器基于从该气源至所述多个沟槽导管的该单独一者的该气体流量而判断一晶圆偏移。

9.如权利要求8所述的监测系统，其中所述多个沟槽导管的边缘对准该标称晶圆位置。

10.如权利要求8所述的监测系统，其中一单一气源与所述多个沟槽导管的每一者流体连通。

11.如权利要求8所述的监测系统，其中该吸座为一静电吸座。

12.如权利要求8所述的监测系统，其中该锥形部分终止于远离该标称晶圆位置的该中心的一最大距离处的一点。

13.如权利要求8所述的监测系统，其中该气源包括一氦气及一氩气中的至少一者。

14.一种监测方法，包括：

将一晶圆放置在一标称晶圆位置处的一吸座上，其中该吸座包括：

多个沟槽导管，布置围绕在该吸座上的该标称晶圆位置的一圆周；以及

一气源，与所述多个沟槽导管流体连通；

基于从该气源至所述多个沟槽导管的一单独一者的一气体流量而判断一晶圆偏移；以及

基于该晶圆偏移而在该吸座上移动该晶圆，

其中每一沟槽导管包括一锥形部分，该锥形部分随着远离该标称晶圆位置的一中心的距离而在面积上变化。

15.如权利要求14所述的监测方法，还包括：

基于从该气源至所述多个沟槽导管的多个者的一聚合气体流量而判断该晶圆偏移。

16.如权利要求14所述的监测方法，还包括：

基于从该气源至所述多个沟槽导管的该单独一者的一气体流率而判断该晶圆偏移。