[发明专利]二氨基嘧啶类化合物及其应用

权利要求书

1.式I所示化合物或其药学上可接受的盐，

其中，

R¹选自

X^a、X^b、X^c、X^d、X^e、X^f、X^g独立地选自化学键、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH₂-CH₂-CH₂-或-CH₂-CH(CH₃)-；

R^1a、R^1d独立地选自C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基；R^1b、R^1c、R^1e、R^1f、R^1g、R^1h、R¹ⁱ、R^1j独立地选自氢、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基；

R^2a、R^2b、R^2c独立地选自氢、卤素、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、卤素取代的C₁-C₄烷氧基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基、C₂-C₄烯基、卤素取代的C₂-C₄烯基、C₂-C₄炔基、卤素取代的C₂-C₄炔基、硝基、氰基、苯基、吡啶基；

R³选自氢、卤素、甲基、卤素取代的甲基、乙基、卤素取代的乙基、甲氧基、卤素取代的甲氧基；

R^4a、R^4b独立地选自氢、卤素、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、卤素取代的C₁-C₄烷氧基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基、C₂-C₄烯基、卤素取代的C₂-C₄烯基、C₂-C₄炔基、卤素取代的C₂-C₄炔基、硝基、氰基、苯基、吡啶基；

基团Cy选自

Y^a、Y^b、Y^c、Y^d、Y^e、Y^f、Y^g、Y^h、Yⁱ、Y^j独立地选自化学键、-CH₂-、-CH₂-CH₂-、-CH₂-CH₂-CH₂-或-CH₂-CH(CH₃)-；

R^5a、R^5b、R^5c、R^5d、R^5e、R^5f、R^5g、R^5h独立地选自氢、卤素、甲基、卤素取代的甲基、乙基、卤素取代的乙基、甲氧基、卤素取代的甲氧基；

R^7a、R^7b、R^7c、R^7d独立地选自氢、卤素、甲基、卤素取代的甲基、乙基、卤素取代的乙基、甲氧基、卤素取代的甲氧基；

R^6a、R^6b、R^6c、R^6d、R^6e、R^6f、R^6g、R^6h、R⁶ⁱ、R^6j独立地选自氢、卤素、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、卤素取代的C₁-C₄烷氧基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基、C₂-C₄烯基、卤素取代的C₂-C₄烯基、C₂-C₄炔基、卤素取代的C₂-C₄炔基、硝基、氰基、苯基、吡啶基；

R^8a、R^8b、R^8c、R^8d、R^8e、R^8f、R⁸ⁱ、R^8j独立地选自氢、卤素、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、卤素取代的C₁-C₄烷氧基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基、C₂-C₄烯基、卤素取代的C₂-C₄烯基、C₂-C₄炔基、卤素取代的C₂-C₄炔基、硝基、氰基、苯基、吡啶基；

R^9a、R^9c、R^9e、R^9g、R⁹ⁱ独立地选自5～7元的单环(A)、7～11元的螺环(A)、7～10元的桥环(A)，所述单环(A)、螺环(A)、桥环(A)上含有1个或2个或3个氮杂原子，所述单环(A)、螺环(A)、桥环(A)上任选地含有1或2个独立地选自氧、硫的杂原子；

所述单环(A)、螺环(A)、桥环(A)上的C或N任选独立地被一个或多个选自C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、-(CH₂)_m-NR¹²R¹³、3～6元的单环(B)的取代基取代；

所述单环(B)含有0个或1个或2个氮杂原子；所述单环(B)含有0个或1个或2个独立地选自氧、硫的杂原子；所述单环(B)上的C或N任选独立地被一个或多个选自C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、-(CH₂)_n-NR¹⁴R¹⁵的取代基取代；

m为0、1、或2；R¹²、R¹³独立地选自氢、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基；

n为0、1、或2；R¹⁴、R¹⁵独立地选自氢、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基；

R^10b、R^10d、R^10f、R^10h、R^10j、R^11b、R^11d、R^11f、R^11h、R^11j独立地选自氢、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基、-(CH₂)_p-NR¹⁶R¹⁷；

p为1、2或3；R¹⁶、R¹⁷独立地选自氢、C₁-C₄烷基、卤素取代的C₁-C₄烷基、C₃-C₆环烷基、卤素取代的C₃-C₆环烷基。