[发明专利]基板、包括该基板的显示装置以及该显示装置的制造方法

权利要求书

1.一种用于显示装置的基板，所述基板包括：

底部基板；

发光区域，形成在所述底部基板之上；

活性层，形成在所述底部基板的一部分上，其中所述活性层包括第一区域和具有高于所述第一区域的载流子浓度的第二区域；

线，至少部分地与所述第一区域重叠；以及

接触电极，将所述线直接连接到所述活性层的所述第二区域，

其中，所述活性层形成在所述底部基板的所有顶部表面之上。

2.如权利要求1所述的基板，其中，

所述第二区域不与所述线重叠并且被布置为与所述线相邻。

3.如权利要求1所述的基板，其中，

所述活性层包括硅。

4.如权利要求1所述的基板，进一步包括：

第一绝缘层，覆盖所述活性层并且包括暴露所述第二区域的第一开口，

其中，所述线被形成为在所述第一绝缘层上至少部分地与所述第一区域重叠。

5.如权利要求4所述的基板，进一步包括：

第二绝缘层，包括覆盖所述线并暴露所述线的一部分的第二开口和连接到所述第一开口的第三开口。

6.如权利要求5所述的基板，其中，

所述第二区域的面积对应于所述第三开口的尺寸。

7.如权利要求5所述的基板，其中，

所述第二绝缘层的厚度大于所述第一绝缘层的厚度。

8.如权利要求5所述的基板，其中，

所述接触电极被形成在所述第二绝缘层上并且配置为通过所述第一开口、所述第二开口和所述第三开口将所述线电连接到所述活性层。

9.如权利要求1所述的基板，其中，

所述线被电连接到薄膜晶体管。

10.如权利要求1所述的基板，其中，

所述线包括彼此交叉的多个线，并且所述接触电极被布置在所述线之上。

11.如权利要求1所述的基板，其中，

在所述用于显示装置的基板的深度维度上所述底部基板分别与所述活性层和所述发光区域重叠。

12.如权利要求1所述的基板，其中，

在所述用于显示装置的基板的长度维度上，所述活性层的宽度大于所述接触电极的宽度。

13.如权利要求1所述的基板，其中，

所述活性层是在其中包括源区域和漏区域的单层。

14.如权利要求1所述的基板，进一步包括：

电容器，形成在所述底部基板之上，

其中，在所述用于显示装置的基板的深度维度上所述底部基板分别与所述活性层和所述电容器重叠。

15.一种显示装置，包括：

底部基板；

发光区域，形成在所述底部基板之上；

活性层，形成在所述底部基板的一部分上，其中所述活性层包括第一区域和具有高于所述第一区域的载流子浓度的第二区域；

薄膜晶体管，包括所述活性层的一部分、栅电极、源电极和漏电极，其中所述活性层形成在所述底部基板的所有顶部表面之上；

栅极线，电连接到所述栅电极并且至少部分地与所述第一区域重叠；以及

接触电极，将所述栅极线直接电连接到所述第二区域。

16.如权利要求15所述的显示装置，进一步包括：

第一绝缘层，覆盖所述活性层并且包括暴露所述第二区域的第一开口，

其中，所述栅极线被形成为在所述第一绝缘层上至少部分地与所述第一区域重叠。