[发明专利]用于等离子体腔室内部的部件及其制作方法

权利要求书

1.一种等离子体腔室内部的部件，其特征在于，包括：

等离子体腔室内的部件本体；

位于所述部件本体上的涂层；

其中，所述涂层包括稀土元素的氟氧化物，化学式为Re_xO_yF_z(x≠0，y≠0，z≠0)，其中，Re为稀土元素，且所述Re_xO_yF_z为结晶相。

2.根据权利要求1所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述涂层还包括所述稀土元素的氧化物和/或所述稀土元素的氟化物。

3.根据权利要求2所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述稀土元素为钇元素，所述稀土元素的氧化物为Y₂O₃，所述稀土元素的氟化物为YF₃。

4.根据权利要求3所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述结晶相为四方相、立方相或菱形结构。

5.根据权利要求3所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述涂层的厚度范围为0.001μm-100μm，包括端点值。

6.根据权利要求1所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述稀土元素为Y、Sc、La、Ce、Pr、Nd、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的等离子体腔室内部的部件，其特征在于，所述部件本体包括：盖板、衬垫、喷嘴、气体分配板、喷淋头、静电吸盘组件、衬底固持框、处理套组、陶瓷衬垫中的至少一种。

8.一种等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，用于形成权利要求1-7任意一项所述的部件，所述制作方法包括：

采用等离子体增强物理气相沉积工艺在等离子体腔室内部的部件本体上形成所述涂层。

9.根据权利要求8所述的等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，所述采用等离子体增强物理气相沉积工艺在等离子体腔室内部的部件本体上形成所述涂层，具体包括：

在真空反应腔内放置固体源材料；

将一等离子体腔室内部的部件本体放置在所述固体源材料的上方；

设置一电子枪蒸发或溅射所述固体源材料，当所述固体源材料被蒸发为气体源材料原子、分子以及自由基，所述气体源材料原子、分子以及自由基向所述部件漂移并凝结于所述部件本体表面形成沉积材料层；

向所述真空反应腔内注入被电离的第一气体，所述第一气体中的离子在电场驱动下向上轰击所述沉积材料层形成具有致密结构且具有随机晶体取向的基元；

所述基元在所述部件本体表面沉积，形成所述涂层。

10.根据权利要求9所述的等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，所述第一气体为活性气体，所述活性气体解离的等离子体或离子束与所述气体源材料原子、分子以及自由基发生反应，形成致密结构且具有随机晶体取向的基元。

11.根据权利要求9所述的等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，所述固体源材料包括稀土元素的氟氧化物。

12.根据权利要求11所述的等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，所述固体源材料还包括所述稀土元素的氧化物和所述稀土元素的氟化物。

13.根据权利要求9所述的等离子体腔室内部的部件的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

向所述真空反应腔内注入第二气体，所述第二气体用于与所述气体源材料原子、分子以及自由基反应形成包含稀土元素、氧元素和氟元素的化合物。