[发明专利]一种应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法

权利要求书

1.一种应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，步骤包括：

于掩膜基板表面依次沉积过渡层、金属层、抗反射层和光刻胶层，形成掩膜叠层；

采用由制造光和辅助光组合形成的双光束激光，将光刻图案转印至所述光刻胶层上；

对所述光刻胶层进行显影，除去由所述制造光辐照的光刻胶；

对所述金属层和所述抗反射层进行腐蚀，并除去剩余光刻胶。

2.根据权利要求1所述的应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，所述制造光与所述辅助光通过合束系统组合形成双光束激光。

3.根据权利要求2所述的应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，所述合束系统包括制造光发射器、辅助光发射器、相机窗口、第一双色镜、第二双色镜、物镜和基台，其中，

所述相机窗口、所述第一双色镜、所述第二双色镜、所述物镜和所述基台沿同一光路依次设置，所述掩膜叠层设置于所述基台上，并位于所述物镜与所述基台之间；

所述辅助光发射器发出的所述辅助光依次经所述第一双色镜、所述第二双色镜和所述物镜后达到所述掩膜叠层表面，所述制造光发射器发出的所述制造光依次经所述第二双色镜和所述物镜后达到所述掩膜叠层表面。

4.根据权利要求3所述的应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，于所述相机窗口处观察所述制造光与所述辅助光的光斑位置，并调节所述第一双色镜和所述第二双色镜的角度，或调节所述物镜的位置，以完成所述制造光与所述辅助光的组合。

5.根据权利要求1所述的应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，所述制造光与所述辅助光以同轴线的方式进行组合，且所述辅助光的光路呈空心柱状将所述制造光的光路包裹于内腔中。

6.根据权利要求1所述的应用于双光束激光光刻的掩膜版制造方法，其特征在于，光刻胶经所述制造光辐照后材料性能发生改变，光刻胶经所述辅助光辐照后材料性能不发生改变。