[发明专利]一种耐磨有机聚硅氧烷组合物及其制备方法

说明书

为克服现有光学塑料表面硬化工艺的施工工艺相对较为繁琐，成本较高的问题，本发明提供了一种耐磨有机聚硅氧烷组合物，包括以下组分：组分(A1)：甲基三烷氧基硅烷；组分(A2)：四烷氧基硅烷；组分(A3)：二官有机烷氧基烷；组分(B)：带有环氧基的有机聚硅氧烷；组分(C)：用量足以促进组合物聚合的催化剂；组分(D)：用量足以促进组合物固化的固化剂。同时，本发明还公开了上述耐磨有机聚硅氧烷组合物的制备方法。本发明提供的耐磨有机聚硅氧烷组合物对光学材料具有较好的附着性能，有效提高光学材料表面的耐磨性能。

技术领域

本发明属于有机硅技术领域，具体涉及一种耐磨有机聚硅氧烷组合物及其制备方法。

背景技术

透明塑料由于耐冲击性能好、密度低、价格低廉、易加工成型等优点在近几年得到广泛的应用。但透明塑料表面硬度低、耐划伤性差，在使用中常常因摩擦、灰尘、风蚀或表面清洗等因素导致表面划痕使能见度受损并影响美观，从而影响其使用寿命及应用范围，严重限制其制品的发展。

现有一种解决的技术方案是在透明塑料的表面施加有机硅耐磨涂层作为保护层，以提高其耐磨性，中国专利文献披露的关于聚碳酸酯光学材料表面的有机硅耐磨涂层的技术方案。如公开号CN 101051092所记载的，公开了一种聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法，包括如下步骤：(1)基底涂层的涂覆，将基底涂料在洁净环境中涂覆于聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥2～60分钟；(2)中间涂层的涂覆，中间涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥5～120分钟；(3)耐磨涂层的涂覆，耐磨涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥30～300分钟，得到有机硅耐磨涂层处理的聚碳酸酯光学材料。该发明的涂料在光学塑料表面形成涂层性能优越，经耐磨涂层增硬后，光学塑料的表面耐磨性得到极大提高。但由于该耐磨涂层对光学塑料的亲和性较差，直接涂覆在光学塑料表面时，导致耐磨涂层在光学材料表面的附着力差，老化测试后易出现脱落现象，故需要中间预涂层来提高耐磨涂层与塑料之间的附着，而现有的对光学塑料有较强亲和性的有机硅涂层(如专利CN 101051092中的基底涂层)，则因为硬度韧性等不够而导致无法起到增强耐磨性的作用，导致现有的光学塑料表面硬化工艺的施工工艺相对较为繁琐，成本较高。

发明内容

针对现有光学塑料表面硬化工艺的施工工艺相对较为繁琐，成本较高的问题，本发明提供了一种耐磨有机聚硅氧烷组合物及其制备方法。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案如下：

一方面，本发明提供了一种耐磨有机聚硅氧烷组合物，包括以下组分：

组分(A1)：甲基三烷氧基硅烷；

组分(A2)：四烷氧基硅烷；

组分(A3)：二官有机烷氧基硅烷；

组分(B)：带有环氧基的有机聚硅氧烷；

组分(C)：用量足以促进组合物聚合的催化剂；

组分(D)：用量足以促进组合物固化的固化剂。

可选的，组分(A1)：组分(A2)：组分(A3)：组分(B)的重量比为60～85：8～30：4～30：1～3。

可选的，所述组分(A3)中，二官有机烷氧基硅烷选自二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷和甲基苯基二甲氧基硅烷中的一种或多种。

可选的，所述组分(B)中，带有环氧基的有机聚硅氧烷具有以下平均单元分子式：

[MeMeSiO_2/2]_a1[RMeSiO_2/2]_b1

其中，Me为甲基、R为且0.5a10.85，0.15b10.5。