[发明专利]基板加热单元和具有基板加热单元的基板处理装置有效
申请号: | 201910304497.9 | 申请日: | 2019-04-16 |
公开(公告)号: | CN110391154B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 金贤秀 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687;H05B3/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 侯志源 |
地址: | 韩国忠淸南道天安*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加热 单元 具有 处理 装置 | ||
1.一种用于支承基板的装置,所述装置包括:
卡盘台,其具有由基部和侧壁限定的内部空间;
加热单元,其设置在所述卡盘台的所述内部空间中;以及
石英窗,其配置为覆盖所述卡盘台的所述内部空间,所述石英窗具有上表面,所述基板放置在所述上表面上,
其中,所述加热单元包括:
加热板,其具有在其中心带有开口的盘形;以及
加热模块,其安装在所述加热板上,每个所述加热模块具有印刷电路板,所述印刷电路板上安装有加热光源,所述加热光源发出用于加热的光;
其中,所述加热模块安装在所述加热板上彼此分开的各自加热区中,且所述加热光源根据所述加热区在不同方向上发出用于加热所述基板的光,用于改进所述基板的加热均匀性;
其中,所述加热区相对于距所述加热板中心的距离至少包括中心区、周边区以及二者之间的至少一个中间区;所述中心区倾斜于所述基板或相对于所述基板弯曲,以使得用于加热的光聚集在所述基板的特定区域上,所述周边区倾斜于所述基板或相对于所述基板弯曲,以使得用于加热的光聚集在所述基板的特定区域上,所述至少一个中间区平行于所述基板。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述中心区、所述周边区和所述中间区中的至少一个被分成具有预定中心角的等角区。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述加热区包括具有预定中心角的扇形等角区,所述扇形等角区相对于所述加热板彼此分开。
4.根据权利要求1所述的装置,其中,至少一个所述加热区为向下倾斜的或朝外凸出的,以使得用于加热的光被分散。
5.根据权利要求1所述的装置,其中,每个所述加热模块还包括所述印刷电路板的底侧上的排热构件。
6.根据权利要求1所述的装置,其中,所述加热板具有排热结构,所述排热结构具有流体流经的流体流动通道,以排出由所述加热模块产生的热量。
7.根据权利要求1所述的装置,其中,所述加热光源包括发光二极管。
8.根据权利要求1所述的装置,其中,位于所述加热区中的一些所述加热光源在不同方向上发出用于加热的光。
9.根据权利要求1所述的装置,其中,所述开口具有半圆的形状。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,所述半圆形的开口设置成使得所述半圆形的开口的直径侧穿过所述加热板的中心。
11.根据权利要求1所述的装置,其还包括:
旋转部件,其与所述卡盘台结合以旋转所述卡盘台,所述旋转部件具有中空形状,
其中,所述加热单元在所述卡盘台中不旋转。
12.一种用于处理基板的装置,所述装置包括:
处理容器,其在顶部为敞开的;
基板支承单元,其位于所述处理容器中并配置为支承所述基板;
处理液体供应单元,其配置为将处理液体供应至放置在所述基板支承单元上的所述基板;以及
加热单元,其设置在所述基板支承单元中,所述加热单元具有加热板,所述加热板上安装有加热模块,每个所述加热模块具有印刷电路板,所述印刷电路板上安装有加热光源,所述加热光源发出用于加热所述基板的光,
其中,所述加热单元具有第一加热区和第二加热区,在所述第一加热区中布置有照射所述基板的特定区域以补偿所述特定区域的温度的所述加热模块,在所述第二加热区中布置有照射除所述特定区域之外的所述基板的正常区域的所述加热模块;
其中,布置在所述第二加热区中的所述加热模块平行于所述基板,且
其中,布置在所述第一加热区中的所述加热模块倾斜于所述基板或相对于所述基板弯曲。
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