[发明专利]瓷片局部镀金属膜方法

权利要求书

1.一种瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于包括以下步骤：

a:挑选已烧成的瓷片，设计需要局部镀金属膜的位置；

b:取步骤a挑选的瓷片，在不需要镀金属膜的位置上一层隔离釉；

c:将步骤b所得的瓷片送入窑炉低温烧成，然后取出冷却，在瓷片上形成隔离釉面；

d:取步骤c中冷却后的瓷片，进行真空镀层；

e:对步骤d中镀层后的瓷片进行清洗，洗掉隔离釉，得到局部镀金属膜的瓷片。

2.根据权利要求1所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于步骤d中真空镀层时，所用靶材为钛，真空炉的温度范围为150-320℃。

3.根据权利要求1或2所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于步骤b中采用丝网印刷上隔离釉。

4.根据权利要求3所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于所述隔离釉为氧化铝粉末和硅酸锆粉末的混合物，印隔离釉所用丝网为50目-80目丝网。

5.根据权利要求4所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于氧化铝粉末和硅酸锆粉末的混合物中按质量分数计，氧化铝粉末占45％-65％，硅酸锆占35％-55％。

6.根据权利要求4所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于丝网印氧化铝粉末和硅酸锆粉末的混合物前，氧化铝粉末和硅酸锆粉末的混合物先与胶水混合均匀。

7.根据权利要求6所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于所述胶水为甲基纤维素溶液，配制浓度为100份水加入1.5份-2份甲基纤维素，氧化铝粉末和硅酸锆粉末的混合物整体与胶水以重量计的混合比例为，粉末总量：胶水＝4：6至6：4。

8.根据权利要求1或2所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于在步骤b和步骤c之间还有一个步骤b’：取步骤b上完隔离釉的瓷片，在需要镀金属的位置用布料机布施一层熔块干粒。

9.根据权利要求1或2所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于步骤c中低温烧成的温度范围为285-800℃，烧成时间为50-70分钟。

10.根据权利要求9所述的瓷片局部镀金属膜方法，其特征在于窑炉分为九个区实施烧制，按顺序为预热一区、预热二区、高温一区、高温二区、急冷一区、急冷二区、冷却一区、冷却二区和冷却三区，其中预热一区温度为330-460℃，预热二区温度为500-645℃，高温一区温度为645-735℃，高温二区温度为735-800℃，急冷一区温度为800-650℃，急冷二区温度为650-555℃，冷却一区温度为555-465℃，冷却二区温度为465-380℃，冷却三区为380-285℃，瓷片经过每个区的时长相同，取出后自然冷却。