[发明专利]一种碱性玻璃基板清洗液组合物

说明书

一种碱性玻璃基板清洗液组合物，组合物为：1.强碱性物质，2.螯合剂，3.分散剂，4.腐蚀抑制剂，5.高纯水，包括以下百分比质量的组分：强碱性物质1‑45%，优选3‑30%，螯合剂0.1‑50%，优选0.5‑20%，分散剂0.1‑25，优选0.2‑20%，腐蚀抑制剂0.1‑15%，优选0.2‑10%，去离子水30‑99.9%，优选40‑98%；本发明的碱性玻璃基板清洗液组合物无毒无腐蚀性，无低沸点有机挥发物，对环境无污染，在有效去除表面基板表面残渣的同时不腐蚀玻璃基底。

技术领域

本发明涉及液晶显示屏制造工艺中的材料领域，具体涉及显示屏制造过程中光刻胶涂胶之前的一种碱性玻璃基板清洗液组合物。

背景技术

液晶显示器由于具有体积小，重量轻，低辐射，低耗电量，全彩化等优点，已经广泛应用到各种显示终端，其产业规模仍处于高速增长阶段，在当前和未来相当长一段时间内将一直是显示领域的主流产品；玻璃基板作为任何显示器都是利用其透明性，用于显示屏的前板，即用于在外部读取图像等，液晶显示器中的玻璃基板分为上基板（彩色滤光片基板）和下基板（TFT 阵列基板），在这两块玻璃基板之间注入液晶材料而实现液晶显示，无论是TFT 阵列还是彩色滤光片的制造，都是玻璃基板作为母版，通过一系列的光刻工艺（涂胶、显影、蚀刻、去胶等）来实现，与半导体晶圆制造工艺类似，而在光刻工艺中，对玻璃基板的洁净度要求很高，洁净与否直接影响光刻的效果；玻璃基板表面不洁净，会造成随后的涂胶、蚀刻会不均匀，有明显的缺陷，而且会造成涂覆的光刻胶附着力减少，造成光刻胶的脱落以及随后显影和蚀刻的等图案化转移的质量缺陷，因此，在涂覆光刻胶之前必须对玻璃基板进行必要的严格清洗，使其达到光刻工艺的要求；TFT-LCD 所使用的玻璃基板在存放的时候，各个玻璃基板之间会有一层纸隔开，长期放置会产生很多油污、颗粒已经氧化铈残渣等，除此之外还有一些纸屑、玻璃碎屑、玻璃粉、有机物、金属物、手印等杂质，因此，在TFT-LCD 显示屏制造过程中，必须将玻璃清洗干净才可以进行后续的光刻工艺；现有技术中，CN107354017A 公开了一种TFT-LCD 显示屏基板清洗液，该清洗液中氢氧化钾含量过高，为了与其它组分形成均相溶液，需要引入大量的表面活性剂和助溶剂，使得其在清洗过程中会产品大量泡沫，造成表面残留和水印，同时由于氢氧化钾含量过高，也会腐蚀玻璃基板；CN107245388A 公开了一种TFT-LCD 玻璃基板清洗剂，该清洗剂中包含了会导致水体富营养化的三聚磷酸钠，会造成水体污染。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种适用于TFT-LCD 显示屏制造过程中光刻胶涂胶之前的一种高效环保碱性玻璃基板清洗液组合物。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种碱性玻璃基板清洗液组合物，其特征在于：组合物为：1. 强碱性物质，2. 螯合剂，3. 分散剂，4. 腐蚀抑制剂，5. 高纯水，包括以下百分比质量的组分，

强碱性物质1-45%，优选3-30%；

螯合剂0.1-50%，优选0.5-20%；

分散剂0.1-25，优选0.2-20%；

腐蚀抑制剂0.1-15%，优选0.2-10%；

去离子水30-99.9%，优选40-98%。

进一步的，所述强碱性物质选自无机强碱性物质和/或有机强碱性物质，其中无机强碱性物质较佳的为氢氧化钾（KOH），氢氧化钠说明书（NaOH），氢氧化锂（LiOH），碳酸钠（Na2CO3），碳酸钾（K2CO3），碳酸氢钠（NaHCO3），硅酸钠（Na2SiO3）等中的一种或几种；有机强碱性物质较佳的为四甲基氢氧化铵、羟乙基三甲基氢氧化铵，四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。