[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，其中，具备：

基板保持工序，由基板保持单元保持基板；

药液供给工序，一边使所述基板绕穿过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向所述基板的主面供给药液；以及

流通目标切换工序，在所述药液供给工序中，将从所述基板排出的药液的流通目标从包围所述基板保持单元的周围的处理杯的第一流通空间切换为所述处理杯的第二流通空间，所述第二流通空间与所述第一流通空间隔开，

所述流通目标切换工序包括：挡板切换工序，是将配置在能够捕获从所述基板排出的药液的能够捕获位置的挡板在筒状的第一挡板和与所述第一挡板分开设置的筒状的第二挡板之间进行切换的工序，其中，所述第一挡板捕获并向所述第一流通空间引导所述药液，所述第二挡板捕获并向所述第二流通空间引导所述药液，将所述第一挡板和所述第二挡板从所述第一挡板配置于所述能够捕获位置的状态切换为所述第二挡板配置于所述能够捕获位置，

所述第一挡板和第二挡板彼此相邻，所述第二挡板以能够包围所述第一挡板的外侧的方式设置，

所述挡板切换工序包括：通过使配置在所述能够捕获位置的所述第一挡板从所述能够捕获位置下降至下位置，使从所述基板排出的药液能够被所述第二挡板捕获的工序，

所述基板处理方法还包括：在使所述第一挡板从所述能够捕获位置向所述下位置下降的过程中，一边捕获从所述基板排出的药液，一边使所述第一挡板在所述能够捕获位置和所述下位置之间的高度保持规定时间的工序。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，

在所述第一流通空间中流通的药液被导出到排液配管，

在所述第二流通空间中流通的药液被导出至回收配管。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

所述药液供给工序包括在所述流通目标切换工序的整个期间继续向所述基板供给药液的工序。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

所述药液供给工序包括在所述流通目标切换工序的期间中至少一部分期间内，停止向所述基板供给药液的工序。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

所述流通目标切换工序基于从所述药液供给工序开始起的经过时间，将所述流通目标从所述第一流通空间切换为所述第二流通空间。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

所述药液供给工序包括在所述流通目标切换工序的前后供给保持为恒定的浓度的药液的工序。

7.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其中，

在所述基板的主面上形成有抗蚀剂，

在所述药液供给工序中供给到所述基板的主面的药液含有SPM。