[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

说明书

本发明提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。

技术领域

本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。作为处理对象的基板例如包括半导体晶片，液晶显示装置用基板，等离子显示器用基板，有机电致发光(Electro-Luminescence，EL)显示装置等的平板显示器(Flat Panel Display，FPD)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

在美国专利申请公开第2018/025922号公报中，公开了逐张处理基板的单张式的基板处理装置。基板处理装置的处理单元包括：将基板保持为水平并使该基板旋转的旋转卡盘；向保持在旋转卡盘上的基板的上表面喷出药液的药液喷嘴；以及包围旋转卡盘的筒状的处理杯。在处理杯的内部划分出供用于处理基板的药液导入的流通空间。

另外，美国专利申请公开第2018/025922号公报的处理单元构成为，能够回收处理基板使用后的药液，并将该回收的药液在以后的处理中再利用。因此，基板处理装置还包括储存向药液喷嘴供给的药液的药液罐、以及将药液从流通空间向药液罐导入的回收配管。处理杯包括具有用于捕获从基板的周边飞散的处理液的内壁的挡板。

另外，在美国专利申请公开第2015/090301号公报中记载了使用清洗液清洗挡板的内壁来去除附着在该内壁上的附着物的技术。更具体地说，在美国专利申请公开第2015/090301号公报中记载了，在冲洗处理中改变从基板飞散的冲洗液的飞散方向，从而使用冲洗液(清洗液)从挡板的内壁去除附着物。

在处理单元中进行的基板处理包括从基板去除颗粒等污染或抗蚀剂等去除对象物质(统称为“污染物质”)的清洗处理以及从基板去除膜的蚀刻处理。因此，在从基板排出的药液中有可能包含这些污染物质或膜等异物。要求抑制或防止对含有异物的药液的回收。

因此，也考虑在从基板排出的药液含有异物期间内，丢弃由挡板捕获的药液，而且在从基板排出的药液不含有异物期间内，回收由挡板捕获的药液。

然而，由于含有异物的药液和不含有异物的药液被共同的挡板挡住，因此，异物有可能会经由挡板的内壁转移到不含有异物的药液中。其结果，在本来不含有异物的药液中有可能会混入异物。

因此，要求在处理杯中将含有异物的药液从挡板的内壁去除。

另外，美国专利申请公开第2015/090301号公报的清洗处理是在药液处理(使用药液的处理)结束后实施的冲洗处理中执行的处理。因此，不能适用于像本次这样的对药液处理过程中的药液的去除。

即，期望在药液处理过程中从挡板的内壁去除残留的异物。

发明内容

因此，本发明的目的在于，提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置。

本发明提供一种基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。