[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置有效
申请号: | 201910144390.2 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN110364452B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 远藤亨;林昌之;柴山宣之 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 张敬强;李平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 方法 以及 装置 | ||
本发明提供基板处理方法,包括:由基板保持单元保持基板的基板保持工序;一边使上述基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液的药液供给工序;与上述药液供给工序并行地检测从上述基板排出的药液中所含的异物的异物检测工序;以及基于上述异物检测工序的异物的检测,在上述药液供给工序中将从基板排出的药液的流通目的地从排液配管切换至回收配管的流通目的地切换工序。
技术领域
本发明涉及基板处理方法以及基板处理装置。成为处理对象的基板例如包括半导体晶圆、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、有机EL(electroluminescence)显示装置等FPD(FlatPanel Display)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、以及太阳电池用基板等。
背景技术
美国专利申请公开第2018/025922号公报中公开一种一张一张地处理基板的单张处理式基板处理装置。基板处理装置的处理单元包括水平地保持基板并使基板旋转的旋转卡盘、朝向保持于旋转卡盘的基板的上表面喷出药液的药液喷嘴、以及包围旋转卡盘的筒状的处理杯。在处理杯的内部划分出引导在基板的处理中使用的药液的流通空间。
并且,美国专利申请公开第2018/025922号公报的处理单元构成为回收在基板的处理中使用后的药液,并能够将该回收到的药液再利用于以下的处理。因此,基板处理装置还包括存积向药液喷嘴供给的药液的药液容器、和从流通空间向药液容器引导药液的回收配管。
美国专利申请公开第2018/025922号公报的处理单元还具备在回收配管与用于废弃的排液配管之间切换流通于流通空间的药液的流通目的地的切换阀。
在处理单元中进行的基板处理包括从基板除去颗粒等污染、抗蚀剂等除去对象物质(统称为“污染物质”)的清洗处理、和从基板除去膜的蚀刻处理。因此,有从基板排出的药液中含有上述污染物质、膜等异物的担忧。需要抑制或者防止含有异物的药液的回收。
另一方面,从药液的省液化、考虑环境等观点看,期望将药液的排液(废弃)限制为最小限度。因此,若从基板排出的药液不含异物,则期望回收该药液并再利用。
因此,也考虑如下情况:在从基板排出的药液含有异物的期间内,排出从基板排出的药液,若之后成为不含异物的期间,则回收从基板排出的药液。在该情况下,需要在适当的时机将从基板排出的药液的流通目的地从排液切换至回收。
发明内容
因此,本发明的目的在于提供能够在适当的时机将从基板排出的药液的流通目的地从排液切换至回收的基板处理方法以及基板处理装置。
本发明提供一种基板处理方法,包括:由基板保持单元保持基板的基板保持工序;一边使上述基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液的药液供给工序;与上述药液供给工序并行地检测从上述基板排出的药液中所含的异物的异物检测工序;以及基于上述异物检测工序的异物的检测,在上述药液供给工序中将从基板排出的药液的流通目的地从排液配管切换为回收配管的流通目的地切换工序。
当从药液供给工序的开始起经过一段时间后,从基板排出的药液中含有大量异物。随着从药液供给工序的开始起经过时间,基板中的药液处理进行,从基板排出的药液所含有的异物的量减少。而且,当从药液供给工序的开始起经过预定时间,从基板排出的药液不含异物。
在该说明书中,“药液不含异物”意思是包括药液完全不含异物、药液基本不含异物、或者药液所含有的异物的量较少的情况。
根据该方法,与药液供给工序并行地检测从基板排出的药液中所含的异物。基于该异物的检测,在药液供给工序中,将从基板排出的药液的流通目的地从排液配管切换为回收配管。由此能够根据该药液中所含的异物的程度来将从基板排出的药液的流通目的地从排液切换为回收。故而,能够在适当的时机将从基板排出的药液的流通目的地从排液切换为回收。
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