[发明专利]一种g-C3N4/CsPbI3/TiO2纳米管阵列的制备方法在审
申请号: | 201910076646.0 | 申请日: | 2019-01-26 |
公开(公告)号: | CN109706505A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 刘世凯;周淑慧;董柯军;李云友;董浩永;樊志杰;闫长菲;冀小华;赵腾飞;单中霄;郭子杰 | 申请(专利权)人: | 河南工业大学 |
主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26;C23C26/00;C23C28/04 |
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地址: | 450001 河南省郑州市高新技*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 混合溶液 电化学阳极氧化法 纳米管阵列结构 半导体材料 纳米复合材料 多元复合 复合电极 改性处理 光催化剂 晶化处理 纳米粒子 金属钛 马弗炉 纳米管 太阳光 悬浮液 钛合金 改性 响应 支撑 吸收 | ||
本发明提供了一种g‑C3N4/CsPbI3/TiO2纳米管阵列的制备方法,属于纳米复合材料技术领域。具体制备方法的步骤为:通过金属钛或钛合金的电化学阳极氧化法首先制备纳米管阵列结构;然后在马弗炉中进行晶化处理,得到TiO2纳米管阵列;再将CsPbI3纳米粒子加入g‑C3N4悬浮液中,得到含CsPbI3和g‑C3N4的混合溶液;最后将TiO2纳米管阵列与混合溶液反应,制备得到g‑C3N4/CsPbI3/TiO2纳米管阵列。该改性处理方法在充分发挥纳米管有序阵列的优势的同时,实现了两种半导体材料的多元复合改性。制备得到的g‑C3N4/CsPbI3/TiO2纳米管阵列,比表面积大,对太阳光的响应吸收范围宽,可作为高性能的复合电极,为高性能光催化剂的设计提供支撑。
技术领域
本发明属于纳米复合材料技术领域,特别涉及一种g-C3N4/ CsPbI3/TiO2纳米管阵列的制备方法。
背景技术
目前,许多研究人员致力于开发高性能的光电极材料,而二氧化钛(TiO2)凭借其高化学稳定性、价格低廉、无毒无害等优良特性引起了广泛的关注。在TiO2各种纳米结构材料中,TiO2纳米管阵列由于比表面积大、吸附能力强、结构特征有利于电子传输等特征,被认为是最有希望的光电极材料之一。
然而,TiO2的禁带宽度较宽(约3.2 eV),只能在紫外光(占太阳能资源的 3~5 %)的照射下被激发,并且其光生载流子容易复合,这些问题大大限制了TiO2 纳米管阵列在光电转换方面的应用。因此必须对TiO2 纳米管阵列进行改性处理。TiO2 纳米管阵列的改性方法有很多种,如金属离子掺杂,非金属离子掺杂,贵金属沉积和半导体复合等。一般来讲,不同的改性方法从不同的方面来改善TiO2 纳米管阵列的光电性能,因此多元复合改性往往可以为TiO2 纳米管阵列光电性能的提高带来协同效应,成为了一种新的改性处理趋势。
发明内容
本发明针对传统改性方法的缺陷,通过金属钛或钛合金的电化学阳极氧化法首先制备纳米管阵列结构,然后在马弗炉中进行晶化处理,得到TiO2纳米管阵列,再将CsPbI3纳米粒子加入g-C3N4悬浮液中,得到含CsPbI3和g-C3N4的混合溶液,最后将TiO2纳米管阵列与混合溶液反应,制备得到了g-C3N4/ CsPbI3/TiO2纳米管阵列。
具体的,本发明提供的一种g-C3N4/ CsPbI3/TiO2纳米管阵列的制备方法,具体按照以下步骤实施:
S1:在含钛金属基体上,通过阳极氧化法制备纳米管有序阵列;
S2:对所制备的纳米管有序阵列进行晶化处理,得到TiO2纳米管阵列;
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