[发明专利]制造氧化物膜的设备和方法及包括该氧化物膜的显示设备

权利要求书

1.一种用于制造氧化物膜的设备，所述设备包括：

下部腔室，所述下部腔室包括反应空间；

基座，所述基座安装在所述反应空间中以支撑基板；

腔室盖，所述腔室盖包括第一气体注入口和一个或多个第二气体注入口并且密封所述反应空间；

气体分配模块，所述气体分配模块安装在所述腔室盖中以面对所述基座并且连接至所述第一气体注入口和所述一个或多个第二气体注入口；

第一源容器模块，所述第一源容器模块连接至所述第一气体注入口，用于提供具有第一蒸气压的第一源气体；

第一载气供应模块，所述第一载气供应模块给所述第一源容器模块供应第一载气；

第二源容器模块，所述第二源容器模块连接至所述第一气体注入口，用于提供具有与所述第一蒸气压不同的第二蒸气压的第二源气体；

推动气体供应模块，所述推动气体供应模块给所述第二源容器模块与所述第一气体注入口之间的气体通路供应推动气体；

反应气体供应模块，所述反应气体供应模块给所述一个或多个第二气体注入口供应反应气体；和

吹扫气体供应模块，所述吹扫气体供应模块给所述第一气体注入口供应吹扫气体，

其中：

通过所述第一载气控制供应至所述第一气体注入口的所述第一源气体的流速，并且

通过所述推动气体控制供应至所述第一气体注入口的所述第二源气体的密度，并且

其中所述第二蒸气压高于所述第一蒸气压。

2.根据权利要求1所述的设备，其中：

所述第一蒸气压小于200Torr，并且

所述第二蒸气压等于或大于200Torr。

3.根据权利要求1所述的设备，进一步包括：

气体注入管，所述气体注入管连接至所述第一气体注入口；和

源气体管线，所述源气体管线连接在所述气体注入管与所述第一源容器模块和所述第二源容器模块中的每一个之间。

4.根据权利要求3所述的设备，其中：

所述源气体管线包括：

第一支管，所述第一支管连接至所述气体注入管；

第一源气体供应管，所述第一源气体供应管连接在所述第一支管与所述第一源容器模块之间；和

第二源气体供应管，所述第二源气体供应管连接在所述第一支管与所述第二源容器模块之间，并且

所述推动气体供应模块给所述第二源气体供应管供应所述推动气体。

5.根据权利要求4所述的设备，其中：

所述第一源容器模块包括第一源容器，所述第一源容器包括被供应所述第一载气的输入口和连接至所述第一源气体供应管的输出口，并且所述第一源容器将第一有机材料蒸发为所述第一源气体，并且

所述第一载气供应模块包括：

与所述第一源容器的所述输入口连接的第一载气供应管；

给所述第一载气供应管供应所述第一载气的第一载气供应源；以及

安装在所述第一载气供应管中的第一流速控制构件。

6.根据权利要求4所述的设备，其中：

所述第二源容器模块包括：

第二源容器，所述第二源容器包括连接至所述第二源气体供应管的输出口，并且所述第二源容器将第二有机材料蒸发为所述第二源气体；和

第二流速控制构件，所述第二流速控制构件安装在所述第二源容器的所述输出口与所述第二源气体供应管之间，并且

所述推动气体供应模块包括：

连接至所述第二源气体供应管的推动气体供应管；

给所述推动气体供应管供应所述推动气体的推动气体供应源；和

安装在所述推动气体供应管中的第三流速控制构件。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述推动气体供应管连接至比所述气体注入管相对更靠近所述第二流速控制构件的部分。

8.根据权利要求1所述的设备，其中：

所述反应气体包括氧气(O₂)，并且

所述气体分配模块从所述反应气体产生等离子体反应气体并且将所述等离子体反应气体分配至所述基板。