[其他]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，作为对被处理基板进行药液涂覆工艺的基板处理装置，其特征在于，包括：

基板支撑部，其支撑基板；

药液涂覆单元，其将药液涂覆于基板；

预干燥单元，其在基板支撑于基板支撑部的状态下，对药液进行预干燥；预干燥单元以防止药液从基板流出来的状态预干燥药液。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

预干燥单元在真空状态下对药液进行预干燥。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，预干燥单元包括：

干燥室部件，其配置为覆盖基板；

真空压力形成部，其用于向干燥室部件的内部空间施加真空压力。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

固定设置所述药液涂覆单元，

基板相对于所述药液涂覆单元进行移动的同时，在基板上涂覆药液。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述干燥室部件设置为下部开放并沿着上下方向可移动，当基板配置于对基板进行预干燥的预干燥位置时，所述干燥室下降的同时覆盖所述基板。

6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板支撑部相对于所述药液涂覆单元可移动地设置。

7.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

在预干燥单元对药液进行预干燥的过程中，基板支撑部的温度保持均匀。

8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

预干燥单元在-50kpa至-90kpa的真空范围内预干燥药液。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

后续干燥单元，其从预干燥单元接收进行了预干燥工艺的基板10后对药液进行后续干燥。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

后续干燥单元在比预干燥单元高的温度范围内对药液进行后续干燥。

11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，包括：

提升单元，其在基板支撑部使得基板上升；

移送单元，其将借助于提升单元从基板支撑部上升的基板移送到后续干燥单元，

预干燥单元在基板提升之前预干燥药液。

12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

预干燥单元部分地干燥包含于药液中的一部分以上的溶剂。

13.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

基板支撑部在使基板浮起的状态下移送。

14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，

基板支撑部利用超声波产生的振动能量使基板浮起。

15.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板支撑部包括：

载体本体，其供基板安装；

吸附孔，其形成于载体本体，使得基板吸附于载体本体，

沿水平平坦地支撑基板。

16.根据权利要求15所述的基板处理装置，其特征在于，

吸附孔形成独立分割的多个吸附区，

基板处理装置包括控制部，控制部同时或按顺序控制基板上的多个吸附区的吸附。

17.根据权利要求15所述的基板处理装置，其特征在于，

向吸附孔施加真空压力的真空单元可分离地结合于载体本体，在载体本体移动的过程中，真空单元与载体本体分离。