[发明专利]基板处理装置以及基板处理装置的构件检查方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，利用处理液进行基板处理，其特征在于，

具备：检查单元，检查用以构成所述基板处理装置的构件的劣化；

所述检查单元具备：

拍摄单元，取得所述构件的图像数据；

颜色信息取得单元，从利用所述拍摄单元所取得的图像数据取得检查对象的构件的颜色信息；以及

劣化判定单元，根据所取得的所述颜色信息判定所述检查对象的构件的劣化程度。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述构件由导电性材料所构成。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述导电性材料包含乙烯-四氟乙烯共聚物、碳纤维掺配四氟乙烯共聚物、纳米碳管掺配聚氯三氟乙烯、纳米碳管掺配聚四氟乙烯中的至少任一者。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述构件在表面形成有涂布层。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述涂布层在基板处理时与所述处理液接触。

6.如权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述颜色信息取得单元所取得的颜色信息包含RGB成分的值。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述劣化判定单元通过所述RGB成分的值与预定的阈值之间的对比来判定劣化的程度。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

针对所述检查对象的每个构件以及/或者装置的每个用途确定所述阈值。

9.如权利要求1至8中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备：输出单元，输出由所述劣化判定单元判定的劣化的程度；

所述输出单元在由所述劣化判定单元判定的劣化的程度超过预定的基准的情形中输出警告信号。

10.如权利要求1至9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述检查对象的构件包含旋转基座、夹具销、旋转夹具、升降器、喷嘴中的任一者。

11.如权利要求1至10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液包含硫酸过氧化氢水溶液、臭氧过氧化氢水溶液、氢氟酸过氧化氢水溶液、氨过氧化氢水溶液、盐酸过氧化氢水溶液、氢氟酸臭氧过氧化氢水溶液、氢氟酸、磷酸中的任一者。

12.如权利要求1至11中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述拍摄单元配置于装置内部。

13.如权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，

所述拍摄单元配置于用以喷出处理液的喷嘴。

14.一种基板处理装置的构件检查方法，是检查基板处理装置的构件的构件检查方法，所述基板处理装置用以利用处理液进行基板处理；

所述基板处理装置的构件检查方法具有：

拍摄步骤，拍摄检查对象的构件；

颜色信息取得步骤，从在所述拍摄步骤中所拍摄的图像数据取得所述检查对象的构件的颜色信息；以及

劣化判定步骤，根据在所述颜色信息取得步骤中所取得的颜色信息来判定所述检查对象的构件的劣化的程度。

15.如权利要求14所述的基板处理装置的构件检查方法，其特征在于，

所述构件由导电性材料构成。