[发明专利]半导体器件用基板的清洗液、半导体器件用基板的清洗方法、半导体器件用基板的制造方法和半导体器件用基板

权利要求书

1.一种半导体器件用基板的清洗液，该清洗液的pH为8以上11.5以下，该清洗液含有以下的成分(A)～(E)，

成分(A)：含有选自由下述通式(1)～(3)所表示的化合物组成的组中的至少一种的化合物，

[化1]

所述通式(1)中，R¹～R⁶各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团，

[化2]

所述通式(2)中，R¹¹～R¹⁷各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团，

[化3]

所述通式(3)中，R²¹～R²⁸各自独立地表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基、羧基、羰基或具有酯键的官能团；

成分(B)：抗坏血酸；

成分(C)：多元羧酸或羟基羧酸；

成分(D)：pH调节剂；

成分(E)：水。

2.如权利要求1所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，所述成分(A)含有选自由下述通式(1)～(2)所表示的化合物组成的组中的至少一种，

[化4]

所述通式(1)中，R¹～R⁶各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基，

[化5]

所述通式(2)中，R¹¹～R¹⁷各自独立地表示氢原子或碳原子数为1～4的烷基。

3.如权利要求1或2所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，所述成分(A)含有选自由1,2-二氨基丙烷、1,3-二氨基丙烷和N-甲基-1,3-二氨基丙烷组成的组中的至少一种。

4.如权利要求1～3中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，所述成分(C)含有选自由草酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸和乳酸组成的组中的至少一种。

5.如权利要求1～4中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，所述成分(D)为选自由包含碱金属的无机碱化合物、包含碱土金属的无机碱化合物和下述通式(4)所表示的有机季铵氢氧化物组成的组中的至少一种，

(R³¹)₄N⁺OH^-···(4)

所述通式(4)中，R³¹表示烷基或者被羟基、烷氧基或卤素取代的烷基，4个R³¹可以相互相同也可以不同。

6.如权利要求1～5中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，所述pH为10以上11以下。

7.如权利要求1～6中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，在清洗液总量100质量％中，组氨酸的含量为0质量％以上0.01质量％以下。

8.如权利要求1～7中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，在清洗液总量100质量％中，所述成分(A)的含量为0.001质量％以上20质量％以下。

9.如权利要求1～8中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，在清洗液总量100质量％中，所述成分(B)的含量为0.001质量％以上20质量％以下。

10.如权利要求1～9中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液，其中，在清洗液总量100质量％中，所述成分(C)的含量为0.001质量％以上10质量％以下。

11.一种半导体器件用基板的清洗方法，其中，使用权利要求1～10中任一项所述的半导体器件用基板的清洗液对半导体器件用基板进行清洗。