[发明专利]磷化铟单结晶体和磷化铟单结晶衬底有效
| 申请号: | 201880005481.1 | 申请日: | 2018-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN110114519B | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
| 发明(设计)人: | 柳泽拓弥;鸿池一晓;桥尾克司 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈海涛;王海川 |
| 地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磷化 结晶体 结晶 衬底 | ||
1.一种磷化铟单结晶体,所述磷化铟单结晶体具有小于1×1016个原子·cm-3的氧浓度,
所述磷化铟单结晶体包含具有圆柱形状的直体部,其中所述直体部的直径为大于或等于100mm且小于或等于150mm,所述磷化铟单结晶体的位错密度为2500cm-2~3500cm-2。
2.一种磷化铟单结晶体,所述磷化铟单结晶体具有小于1×1016个原子·cm-3的氧浓度,
所述磷化铟单结晶体包含具有圆柱形状的直体部,其中所述直体部的直径为大于100mm且小于或等于150mm。
3.一种磷化铟单结晶衬底,所述磷化铟单结晶衬底具有小于1×1016个原子·cm-3的氧浓度,其中所述磷化铟单结晶衬底的直径为大于或等于100mm且小于或等于150mm,所述磷化铟单结晶衬底的位错密度为2500cm-2~3500cm-2。
4.一种磷化铟单结晶衬底,所述磷化铟单结晶衬底具有小于1×1016个原子·cm-3的氧浓度,其中所述磷化铟单结晶衬底的直径为大于100mm且小于或等于150mm,所述磷化铟单结晶衬底的位错密度为2500cm-2~3500cm-2。
5.一种磷化铟单结晶衬底,其通过如下得到:将根据权利要求1或2所述的磷化铟单结晶体在适当规定的方向上进行切片,从而得到在适当规定的平面方向上具有主表面的InP单结晶衬底,其中
所述磷化铟单结晶衬底的氧浓度小于1×1016个原子·cm-3,
所述磷化铟单结晶衬底的直径为大于或等于100mm且小于或等于150mm。
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