[实用新型]一种简便有效可防止液体回流的底座有效
| 申请号： | 201821481225.3 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN208781828U | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 汤建兴;许哲维 | 申请（专利权）人： | 福建省福联集成电路有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 | 代理人： | 林祥翔;徐剑兵 |
| 地址： | 351117 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 底座 挡水机构 晶圆 吸盘机构 旋转机构 清洗液回流 液体回流 固定架 挡水 本实用新型 调整单元 晶圆背面 清洗效率 驱动单元 使用寿命 旋转清洗 清洗液 旋转台 中心孔 导流 吸附 背面 转动 驱动 外部 保证 | ||
1.一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：包括吸盘机构、底座、旋转机构和挡水机构；
所述旋转机构包括旋转台和驱动单元，所述底座的中心位置设置有中心孔，吸盘机构的导管设置在中心孔内，吸盘机构设置在旋转台上，驱动单元设置在旋转台的底面上；
所述挡水机构包括固定架、调整单元和挡水板块，固定架设置在底座的顶面上，固定架位于底座的中心孔的一侧，调整单元设置在固定架上，挡水板块设置在调整单元上；
所述吸盘机构的顶面相对于底座之间的间距大于挡水机构的顶面相对于底座之间的间距，挡水机构用于阻挡位于吸盘上的晶圆的清洗液回流至晶圆的底面和/或流入底座内。
2.根据权利要求1所述的一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：所述调整单元包括螺栓和弹簧，所述固定架的顶面设置有螺纹孔，挡水板块设置在螺栓上，螺栓设置在螺纹孔内，所述弹簧套设在螺栓上，且弹簧位于挡水板块与固定架之间。
3.根据权利要求1所述的一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：所述吸盘机构包括吸盘、真空泵和导管，吸盘设置在导管一端的端口上，导管套设于底座的中心孔内，导管的另一端与真空泵的吸气口管连接设置，真空泵设置在旋转台上。
4.根据权利要求3所述的一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：所述导管与底座的中心孔之间设置有轴承。
5.根据权利要求1所述的一种简便有效可防止液体回流的底座，其特征在于：所述吸盘机构的顶面与挡水机构的顶面之间的间距为0.69mm～0.71mm。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
