[实用新型]氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台

说明书

本实用新型适用于薄膜生产技术领域，提供了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台和升降装置，旋转平台通过移动板连接升降装置；升降装置包括旋转柱、移动块和限位座，旋转柱上设有限位孔，限位孔呈螺旋状，移动块通过限位柱连接旋转柱，且限位柱位于限位孔内，限位座上设有限位槽，移动块通过连接杆连接移动板，两端分别连接移动板和移动块。升降装置上安装有防倒转装置，防倒转装置包括锥齿轮、固定块和限位件，限位件包括第一限位件和第二限位件，第一限位件通过弹性件连接第二限位件，且第一限位件和第二限位件上均设有拉线。借此，本实用新型能够对旋转平台的位置进行有效调节，从而降低操作时间，提高工作效率。

技术领域

本实用新型涉及薄膜生产技术领域，尤其涉及一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台。

背景技术

氢化非晶硅薄膜是一种重要的半导体材料，由于其具有优越的光电特性而被广泛的应用于各类电子器件上。然而氢化非晶硅薄膜具有值得研究的特点，不仅体现在非晶网路中原子的随机排列以及氢原子成键的多样性和多边形，而且也体现在薄膜结构对工艺条件的敏感性，以及在不同条件下产生的各种微结构。氢化非晶硅薄膜结构复杂和多变的特点使得对其结构的理解、特性的预测以及工艺条件的稳定性等问题的解决出现诸多难点。在对其进行生产过程中，会采用旋转平台对膜层进行承载，保证反应过程中，膜层的不断旋转，使反应的原子或原子团能够均匀的排列在膜层上，使薄膜成型厚度均匀。现有技术中，对旋转平台的制备，多采用固定旋转式平台，在起辉溅射过程中，需要改变溅射气体和反应气体的流量对原子的反应效果进行控制，操作较复杂，且不容易随时改变溅射气体和反应气体的流量，从而降低反应效果，影响反应质量。

综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

实用新型内容

针对上述的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，其可以有效缩短操作时间，从而提高工作效率，保证工作质量。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，包括旋转平台和升降装置，所述旋转平台通过移动板连接升降装置；所述升降装置包括旋转柱、移动块和限位座，所述旋转柱上设有限位孔，所述限位孔呈螺旋状，所述移动块通过限位柱连接旋转柱，且所述限位柱位于限位孔内，所述限位座上设有限位槽，且所述移动块位于限位槽内，所述移动块通过连接杆连接移动板，且所述连接杆穿过限位座，两端分别连接移动板和移动块。所述升降装置上安装有防倒转装置，所述防倒转装置包括锥齿轮、固定块和限位件，所述限位件包括第一限位件和第二限位件，且第一限位件和第二限位件一端活动连接固定块，另一端位于锥齿轮的齿轮空间内，所述第一限位件通过弹性件连接第二限位件，且所述第一限位件和第二限位件上均设有拉线。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转柱两端套接有固定座，且所述固定座固定连接升降装置壳体。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转柱通过旋转齿轮连接锥齿轮。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第一限位件一端活动连接固定块，另一端弯折成型，且弯折角度为90°。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第二限位件一端活动连接固定块，另一端具有弧度。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述第一限位件和第二限位件上均安装有固定柱，所述弹性件两端卡接固定柱。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述旋转平台固定连接动力件，所述动力件上安装有外壳，且所述移动板固定连接外壳。

根据本实用新型的氢化非晶硅光学薄膜生产用升降平台，所述限位孔旋转位于旋转柱上，且呈镂空设置。