[实用新型]用于光取向的曝光头和曝光系统

权利要求书

1.一种用于光取向的曝光头，其特征在于，所述曝光头包括多个平行光单元和曝光头控制单元，其中：

所述多个平行光单元中的每一个包括：

灯筒，所述灯筒是与竖直方向成角度α的倾斜装置；

光源，所述光源设置在所述灯筒的一端并与外部电源相连接；和

准直镜头，所述准直镜头设置在所述灯筒的另一端，以将穿过所述准直镜头的光线转换为具有与竖直方向的夹角为所述角度α的平行出射光线；以及

所述曝光头控制单元与所述多个平行光单元以及所述外部电源相连接，以控制所述多个平行光单元的出射光强度和时间。

2.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述光源为LED芯片。

3.根据权利要求2所述的曝光头，其特征在于，所述LED芯片发射的LED光线的波长峰值为300nm-470nm。

4.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述光源为激光二极管LD芯片，所述准直镜头为扩束镜组。

5.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述角度α在5度到85度之间，并且所述角度α能够调节。

6.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述多个平行光单元安装在同一水平面内。

7.根据权利要求6所述的曝光头，其特征在于，所述多个平行光单元安装为多列，并且相邻两列的平行光单元错位安装。

8.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述灯筒为形成在铝板上的与竖直方向成角度α的倾斜铣孔。

9.根据权利要求1所述的曝光头，其特征在于，所述曝光头还包括散热装置，所述散热装置靠近所述多个平行光单元设置以在所述曝光头工作期间对所述多个平行光单元进行散热。

10.一种用于光取向的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统包括：

曝光室；和

如权利要求1-9中任一项所述的曝光头，所述曝光头设置在所述曝光室内。

11.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括传送装置，所述传送装置设置在所述曝光头的下方并与所述控制单元通信，以在所述控制单元的控制下运送基板从所述曝光头的下方穿过。

12.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括旋转装置，所述旋转装置分别与所述曝光头和所述控制单元相连接，以在所述控制单元的控制下驱动所述曝光头在水平面内旋转。

13.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括偏振片，所述偏振片设置在所述曝光头与基板之间，以使所述曝光头发出的光线能够穿过所述偏振片照射到基板。

14.根据权利要求13所述的曝光系统，其特征在于，所述偏振片的面积小于所述曝光头发出的光线的照射面积。

15.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括掩膜版，所述掩膜版设置在所述曝光头与基板之间，以使所述曝光头发出的光线只能够局部穿过所述掩膜版照射到基板。

16.根据权利要求10所述的曝光系统，其特征在于，所述曝光系统还包括温度控制器和湿度控制器，所述温度控制器和所述湿度控制器分别与所述控制单元相连接，以在所述控制单元的控制下调节所述曝光室内的温度和湿度。