[实用新型]三维存储器有效

专利信息
申请号: 201820852897.4 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN208208759U 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 肖莉红 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11578;H01L27/1157;H01L27/11524
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 430205 湖北省武汉市洪山区东*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 堆栈 沟道层 沟道 三维存储器 导电部 衬底 虚拟栅极 本实用新型 电隔离 孔对准 栅极层 堆叠 平行
【权利要求书】:

1.一种三维存储器,其特征在于包括:

衬底;

位于所述衬底上的堆叠的第一堆栈和第二堆栈,所述第一堆栈和第二堆栈分别包括间隔的栅极层;

位于所述第一堆栈中的第一沟道孔;

位于所述第一沟道孔中的第一沟道层;

位于所述第二堆栈的第二沟道孔,所述第二沟道孔与所述第一沟道孔对准;

位于所述第二沟道孔中的第二沟道层;

位于所述第一堆栈和所述第二堆栈间的虚拟栅极层;以及

位于所述第一沟道层和所述第二沟道层间的导电部,所述导电部连接所述第一沟道层和所述第二沟道层,且所述导电部与所述虚拟栅极层在平行于所述衬底的方向上相互间隔并电隔离。

2.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,还包括位于所述虚拟栅极层与所述导电部的至少一部分间的绝缘层。

3.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,还包括位于所述第一堆栈和第二堆栈间的堆栈中间层,所述虚拟栅极层位于所述堆栈中间层上,其中所述导电部位于所述堆栈中间层和所述虚拟栅极层中。

4.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,所述虚拟栅极层连接到用于接收偏置电压的电压偏置线,所述栅极层连接到用于接收栅极电压的互连线。

5.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,所述导电部的材料为多晶硅。

6.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,所述导电部位于所述第一沟道层之上,并沿所述第一沟道孔的径向向外的方向突出于所述第一沟道层。

7.如权利要求1所述的三维存储器,其特征在于,所述三维存储器为电荷俘获型存储器或浮栅型存储器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司,未经长江存储科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820852897.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top